Occasion SEMITOOL Scepter #293807079 à vendre en France

SEMITOOL Scepter est un équipement de photorésistance qui utilise un masque spécialisé pour créer des motifs nanométriques dans une variété de matériaux. Le système se compose d'un étage de plaquettes, d'une source de vide, d'optiques et de sources lumineuses. Les photomasques sont faits de matériaux hautement spécialisés, de sorte qu'ils peuvent être conçus pour créer des motifs complexes. L'étage de plaquette est utilisé pour bien orienter le photomasque et la plaquette avec la précision nécessaire à la réalisation d'une image. La source de vide assure la compatibilité avec l'exigence de vide pour le traitement des plaquettes. De plus, les optiques sont conçues pour fournir des optiques de commande pour l'imagerie du photomasque sur la plaquette. Les sources lumineuses peuvent varier selon le type de photorésist utilisé, comme l'Ultra High Vacuum (UHV) et les sources laser à ultraviolet profond (DUV). Pour bien visualiser le photomasque, on utilise une unité d'alignement d'image. Il s'agit d'un dispositif de haute précision qui peut faire tourner et déplacer le photomasque jusqu'à ce qu'il soit exactement aligné sur la plaquette. Une fois le photomasque correctement aligné, le processus d'exposition peut commencer. Le processus d'exposition implique une machine de lentilles pour focaliser la lumière sur le photomasque et sur la plaquette, et l'exposition peut varier en fonction de l'intensité de la source lumineuse et du positionnement du photomasque. C'est ce processus d'exposition qui fait durcir la résine photosensible et former des motifs. Une fois le photomasque exposé, la plaquette est développée pour éliminer les parties de la photorésist qui n'étaient pas exposées. Cela développe le motif sur la plaquette. Pour la dernière étape, la plaquette est prête à être traitée pour passiver des contaminants de surface, et le motif peut alors être utilisé pour diverses applications, telles que la formation de transistors, de condensateurs ou d'autres dispositifs nanométriques. Scepter est l'un des systèmes photorésistants les plus populaires et les plus fiables en raison de ses capacités d'alignement précises, sa compatibilité avec une variété de sources lumineuses, et sa répétabilité élevée. C'est un outil inestimable pour ceux qui cherchent à produire des motifs nanométriques pour leurs divers appareils et applications.