Occasion SEMITOOL SRD 440 #9223322 à vendre en France

SEMITOOL SRD 440 est un équipement de photorésistance de pointe conçu pour exposer avec précision, développer et feuilleter les couches de photorésist utilisées dans les industries MEMS, semiconducteurs et optoélectroniques. Il dispose d'une source lumineuse visible cohérente à 4 faisceaux avancée, de capteurs et d'un système de rétroaction informatisé permettant un alignement précis et un contrôle de la focalisation. Les quatre faisceaux ont des contrôles d'intensité individuels pour les exigences d'exposition au réglage fin. De plus, le logiciel comprend un mode de capture d'écran pour l'alignement automatique du masque lorsque l'unité est au ralenti. L'unité optique intègre une lentille à champ plat qui maximise l'uniformité de correction de la lentille. Une caméra sur le panneau avant permet une visualisation facile du processus d'alignement du masque. Le SRD 440 dispose également d'un étage de positionnement des plaquettes de précision avec deux axes et deux niveaux qui garantissent la précision et la répétabilité. L'étage permet le réglage de précision de la plaquette à la position de mise au point, garantissant des motifs alignés sur le produit fini. Il dispose également d'une fonction unique de chargement automatique des plaquettes qui capture et charge automatiquement jusqu'à 25 plaquettes, réduisant le temps de manutention manuelle et les erreurs associées. La plate-forme intègre un sélecteur de processus automatisé qui permet une sélection rapide des outils et le calcul du temps de développement. L'interface logicielle permet également une intégration facile avec d'autres outils en usine. SEMITOOL SRD 440 combine une machine photorésist fiable et précise avec un entretien et un fonctionnement faciles, ce qui en fait l'outil de photorésistance parfait pour des environnements de recherche et de production haut de gamme. Il a la capacité de traiter une variété de processus, de la microfabrication détaillée à la production à grande échelle. Le fonctionnement efficace et les contrôles conviviaux garantissent que cet actif photorésist peut atteindre un débit et une qualité accrus.