Occasion SEMITOOL SST-202A #9265775 à vendre en France

SEMITOOL SST-202A est un équipement de photorésistance conçu pour la modélisation de précision dans les applications de lithographie. Le système fournit une large gamme de solutions de processus, permettant un traitement efficace et précis d'une variété de substrats. SST-202A est composé d'une piste de lithographie pour produire des structures sur des substrats à haute fidélité, d'un contrôleur d'unité automatisé (ASC) pour le contrôle de la puissance, et d'un enrobeur de spin pour l'application précise de photorésist. SEMITOOL SST-202A comprend également un asher plasmatique optionnel, une unité d'exposition et une unité de décollement pour un contrôle plus poussé du processus de traitement. SST-202A est capable de traiter des substrats solides jusqu'à 8 pouces de diamètre, ainsi que des substrats amincis tels que MEMS, OLED, composé III-V, et des dispositifs de puissance. La machine utilise un moniteur d'épaisseur de film pour assurer un revêtement photorésist uniforme lors du tournage. La résine photosensible est ensuite exposée à la lumière UV pour le traitement. L'ASC de SEMITOOL SST-202A possède des fonctionnalités avancées pour contrôler les processus en temps réel. Il dispose d'un outil d'enregistrement des données pour suivre les paramètres du processus, ainsi que des instructions étape par étape pour une efficacité maximale. L'ASC permet également l'étalonnage automatique des énergies d'exposition pour une variété de photorésists et de substrats. L'asher plasmatique facultatif permet d'éliminer efficacement les résidus de résines photosensibles et d'autres contaminants du substrat décrit. L'asher utilise une source RF pour créer un plasma à l'intérieur d'une chambre à vide, ce qui conduit à un profil de gravure uniforme à travers le substrat. L'unité d'exposition UV optionnelle permet une exposition précise du motif sur le substrat. L'unité dispose d'une lampe à fréquence variable, offrant des temps d'exposition réglables de 10 ms à 10 secondes. L'unité de décollement optionnelle peut être utilisée pour le retrait de la résine photosensible du substrat une fois le traitement terminé. Un plateau chauffé avec alimentation en gaz inerte est utilisé pour soulever la résine photosensible avec un minimum d'endommagement du substrat. Dans l'ensemble, SST-202A actif photorésist fournit une plate-forme unique pour le traitement lithographique d'une variété de substrats avec une grande précision et répétabilité. Le modèle est équipé de fonctionnalités avancées pour assurer la fixation efficace et précise des substrats pour une variété d'applications.