Occasion SEMITOOL SST-614-AG #9043971 à vendre en France

SEMITOOL SST-614-AG est un équipement de photorésistance conçu pour le traitement des plaquettes. Il s'agit d'une unité « autonome » spécifiquement conçue pour appliquer et développer des solutions photorésistantes sur des plaquettes de silicium. Les composants de base de cet instrument sont une station de transfert de plaquettes, une piste de pulvérisation de spin, une piste de bain claire, un pulvérisateur de spin et une piste Allmighty. La station de transfert de plaquettes permet à un opérateur de charger ou décharger manuellement des plaquettes simples du système. Ce poste de transfert permet un réglage vertical et horizontal pour l'orientation des plaquettes. Le Spin Spray Track est conçu pour permettre une distribution précise de la solution de résine photosensible sur la plaquette. Ceci crée un revêtement uniforme de la résine photosensible, donnant un profil pair sur la plaquette. Le Clear Bath Track se compose d'un seul récipient qui est rempli d'une solution aqueuse ou non aqueuse et fonctionne comme une station de lavage. L'applicateur de pulvérisation à l'intérieur de la piste de bain assure une répartition uniforme de la solution du développeur sur la plaquette pour permettre un développement photo plus efficace. La piste Spin Spray peut également être utilisée conjointement avec la piste Clear Bath pour créer un profil photorésist uniforme sur la plaquette. Enfin, la voie Allmighty est chargée d'accumuler les résidus de résistance provenant du spin-spray à l'intérieur de l'unité et de les disposer pour nettoyer les réservoirs de rinçage à l'extérieur de l'unité. C'est une machine de filtrage qui a également une capacité allant jusqu'à douze wafers Standard 200mm. En conclusion, SST-614-AG est un outil complet de traitement de photorésist pour développer des solutions de photorésist sur des plaquettes de silicium. Il est équipé de nombreuses caractéristiques, dont une station de transfert de plaquettes, une piste de pulvérisation de spin, une piste de bain claire, un pulvérisateur de spin et une piste Allmighty pour assurer un traitement uniforme et efficace. Cet actif photorésist peut améliorer les cadences de production et garantir des résultats optimaux pour les applications de traitement photorésist.