Occasion SEMITOOL SST-742 #9356936 à vendre en France

SEMITOOL SST-742 est un équipement de photorésistance qui traite efficacement et avec précision les substrats semi-conducteurs. Cette plate-forme de type lot se compose d'un rinçage par débordement, rinçage DI chaud, charge centrale, séchoir à spin, transfert de voie, pré-cuisson, aligner, lithographie auto-faisceau, post-cuisson, développement et déchargement de voie. Il est conçu pour offrir une reproductibilité supérieure des processus, une large gamme de capacités de processus, et une opération conviviale. Le rinçage de débordement peut traiter des substrats de 35 à 200µm, ainsi que des puces à bord, des cartes de sonde et des substrats d'une hauteur pouvant atteindre 20mm. L'installation de rinçage de DI à chaud ne nécessite qu'un seul apport d'eau de DI propre jusqu'à 95 ° C Une seule entête peut être utilisée pour alimenter jusqu'à 4 réservoirs de rinçage, ce qui permet de choisir le niveau d'élimination des particules nécessaire. La charge centrale est conçue pour maintenir les substrats en position, tandis que le sèche-linge élimine toute eau résiduelle laissée sur les plaquettes après le rinçage DI. Le transfert de voie est chargé de transporter les plaquettes de la charge centrale à l'étape d'alignement. Ici, la précision de position de la plaquette est maintenue avec une précision de 25µm. Ensuite, le pré-four est utilisé pour appliquer la photorésist, tandis que la lithographie auto e-faisceau est utilisé pour exposer la photorésist. La post-cuisson complète alors l'application de la résine photosensible, tandis que la piste décharge la plaquette au fur et à mesure qu'elle se déplace dans le système. Dans l'ensemble, SEMITOOL SST 742 est une unité de photorésistance complète qui offre une large gamme de capacités de processus et une reproductibilité fiable des processus. Sa conception ergonomique offre une sécurité optimale pour l'opérateur, tandis que l'automatisation de la machine améliore le débit des processus et élimine les risques de désalignement. L'outil est idéal pour la production industrielle de substrats haute performance et de dispositifs semi-conducteurs.