Occasion SEMITOOL SST-C-221-280-P #9400640 à vendre en France

ID: 9400640
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2001
Spray solvent system, 8" (3) Chambers (2-Heated) 2001 vintage.
SEMITOOL SST-C-221-280-P est un équipement de photorésistance de précision spécialement conçu pour la gravure, le revêtement et le développement de circuits intégrés. Ce système comporte plusieurs composants pour un contrôle précis du processus d'application de la résine photosensible. L'unité inclut un état de SST d'art C 221 280 P se photoopposent au pulvérisateur, une lampe de quartz pour le contrôle d'exposition précis et un processeur de tour avec une chambre de spray recirculante. Le pulvérisateur de photorésistance SEMITOOL SST-C-221-280-P est conçu pour fournir des quantités précises de photorésist à des débits et pressions prédéterminés. Ceci est réalisé par un contrôleur automatisé qui est programmé avec des paramètres de pulvérisation spécifiques. Cela permet des pièces plus uniformes avec la plus haute qualité possible. La lampe à quartz conçue pour être utilisée avec SST-C-221-280-P machine permet un contrôle précis des temps d'exposition et de l'intensité. Cela garantit que la résine photosensible n'est ni surexposée ni sous-exposée. L'intensité et le temps d'exposition peuvent être facilement ajustés afin d'optimiser le processus pour différentes formulations photorésistantes. Le processeur de spin inclus dans l'outil SEMITOOL SST-C-221-280-P comprend des commandes automatiques avancées qui fournissent une vitesse de traitement et un contrôle de température précis. Des jets stratégiquement montés à l'intérieur du processeur de pulvérisation pulvérisent une fine brume de photorésist sur le substrat qui est ensuite traité à la température optimale. La conception du processeur minimise la perte de photorésist et fournit un environnement dynamique pour des conditions de traitement précises et répétables. SST-C-221-280-P actif photorésist est le choix parfait pour la gravure, le revêtement et le développement de circuits intégrés. Sa combinaison de processus automatisés contrôlés avec précision, ainsi que le contrôle précis de l'exposition et du traitement, fournit des résultats fiables et reproductibles. De plus, la capacité du modèle à utiliser différentes formulations photorésistantes garantit qu'il peut être utilisé dans un large éventail d'applications.
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