Occasion SEMITOOL SST-C-321-280 #9238397 à vendre en France

ID: 9238397
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2000
Spray solvent system, 8" Part number: SST-C-221-280 Cabinet: Stainless steel, class 1 Gen-2 build Front local interface (Standard) Tool side touch screen EMO (Front and rear) Bottom fed facilities Top fed exhaust (2) Heated tanks for NMP based processing (Standard) (2) IPA Tanks (Non heated) (280) Bowls (Accommodates, 8" substrate-low profile) Encapsulated Ferro fluidic drive seal KALREZ Bowl seal N2 Purged dedicated chemical DI Water spray manifolds TFE N2 Dry manifold Graphic color controller Process variable control of RPM Heated chemical temperature Power supply: 208 VAC, 30 A, 5 wire, 50/50 Hz, 3 Phase 2000 vintage.
SEMITOOL SST-C-321-280 est un équipement photorésist semi-automatique conçu pour être utilisé dans des applications de production de volume moyen à élevé. Il convient pour le traitement simple ou double face de substrats jusqu'à 12 "de diamètre. Le système est composé de plusieurs composants distincts : tête d'exposition, étape de pulvérisation-développeur, étape de rinçage au spin, convoyeur et spin-coater. La tête d'exposition se compose d'un moteur pas à pas, d'une électronique de commande et d'un obturateur à deux étages pour assurer des temps d'exposition corrects pour la résistance photosensible positive et négative. La tête est équipée d'un foyer réglable manuellement et des cadrans d'intensité et est capable de manipuler jusqu'à 12 "substrats. Il est fixé à la machine par un bras robotique de 175 cm de long pour un accès facile et une manipulation automatisée du substrat. L'étage de pulvérisation-développeur est un outil de buse multi-ports qui utilise l'alcool isopropylique (IPA) pour éliminer la résine photosensible non exposée de la surface du substrat. Il est équipé d'un PLC pour contrôler avec précision la quantité de développeur utilisé et dispose d'un actif intégré de recirculation des déchets. Il est également équipé d'un port d'évacuation pour faciliter l'entretien sûr et facile du panneau du développeur. L'étape de rinçage au spin est utilisée pour rincer le substrat avant le procédé spin-coater. Il dispose d'un panneau de commande dédié et de PLC pour assurer des temps de rinçage précis et des températures adaptées au type de résistance utilisé sur le substrat. L'étape est équipée d'un plateau de récupération de solvant et utilise l'IPA pour effectuer le cycle de rinçage. Le convoyeur facilite le déplacement des substrats entre les différentes étapes du modèle et dispose d'une planche de chauffage céramique dédiée pour assurer des températures constantes tout au long du cycle photorésist. Le spin-coater est utilisé pour appliquer la résine photosensible sur la surface du substrat sous la forme d'un film très mince. Il dispose d'un minuteur programmable numérique et fournit un certain nombre de cycles d'application pré-programmés pour divers types de résistances. L'étage est capable de filer des substrats jusqu'à 12 "de diamètre à des vitesses comprises entre 200 et 2500 tr/min. En conclusion, SEMITOOL SSTC321280 est un équipement idéal pour le traitement de résines photosensibles dans des applications de production de volume moyen à élevé. Il dispose d'une variété de composants spécialisés, y compris une tête d'exposition, pulvérisateur-développeur, spin rinçage et étapes de revêtement, et un convoyeur. Le système est non seulement facile d'accès et de maintenance, mais il peut également accueillir une gamme de tailles de substrat jusqu'à 12 "de diamètre.
Il n'y a pas encore de critiques