Occasion SEMITOOL SSTC-632280 #293616250 à vendre en France

SEMITOOL SSTC-632280 L'équipement photorésist est un procédé humide automatisé utilisé pour déposer une couche mince d'un matériau photosensible appelé photorésist sur un substrat d'un matériau donné qui est alors exposé à une intensité lumineuse désirée. Le système de photorésist est composé de plusieurs composants dont une unité de distribution de solvant, une buse de pulvérisation, une chambre de réaction et une chambre de dépôt de photorésist. La machine de distribution de solvant est utilisée pour délivrer une quantité désirée de solvant à la buse de pulvérisation. Ceci pour s'assurer que la résine photosensible est projetée sur le substrat dans le volume correct. La buse de pulvérisation ajoute une étape critique dans le procédé car elle atomise la résine photosensible en fines particules qui sont ensuite appliquées sur le substrat de manière uniforme. La chambre de réaction est également connue sous le nom de chambre à gaz ou à vapeur et sert à contrôler l'environnement dans lequel la résine photosensible est déposée. Cette chambre contrôle la pression, la température et la quantité d'oxygène présent dans l'atmosphère, ce qui a un effet sur l'homogénéité et la précision de la couche de résine photosensible. La chambre de dépôt de photorésist est une chambre fermée qui abrite le substrat et où la photorésist est pulvérisée. La conception particulière de la chambre permet une température, une pression et une atmosphère d'oxygène constantes pendant le processus de dépôt. La dernière étape critique du procédé est l'exposition du substrat à une source lumineuse. Ceci est fait pour que la couche de résine photosensible ait la sensibilité désirée à l'intensité lumineuse désirée. Une fois ce procédé terminé, la couche de résine photosensible est ensuite durcie, si nécessaire, puis retirée du substrat. SSTC-632280 outil photorésist est un procédé humide fiable et automatisé qui est généralement utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs. C'est une solution idéale pour une variété d'applications allant de la photolithographie aux cellules solaires à couches minces. Avec ses résultats précis et cohérents, l'actif est l'une des principales solutions pour les dépôts de résines photosensibles.