Occasion SEMITOOL SSTF 421280M #293653192 à vendre en France

SEMITOOL SSTF 421280M
ID: 293653192
Taille de la plaquette: 6"
Style Vintage: 1997
Spray solvent system, 6" 1997 vintage.
SEMITOOL SSTF 421280M est un équipement de photorésistance conçu pour les procédés de dépôt de couches minces et de photolithographie. Il combine un spin-coater et un spinner, permettant un dépôt précis et uniforme de photorésistes dans les substrats. Le spin-coater peut être utilisé pour appliquer des matériaux photorésistants sur un substrat avec une uniformité maximale, tandis que le spinner peut tourner substrat jusqu'à 40.000 tr/min. Le système est livré avec une variété d'accessoires dont un refroidisseur de recirculation, un manutentionnaire de plaquettes à 4 ports, un couvercle universel, une cellule jetable, une source de pression, et un réservoir pour les milieux. Il comprend également un logiciel pour gérer, surveiller et contrôler l'unité. Le logiciel se compose d'une interface utilisateur, d'un gestionnaire de recettes et d'un module enregistreur de données. Le refroidisseur de recirculation assure un refroidissement précis pour que les matériaux photorésistants restent à une température constante tout au long du processus de dépôt. Le gestionnaire de plaquettes à 4 ports assure un positionnement précis et uniforme du substrat. Le couvercle universel aide à prévenir l'exposition indésirable à la lumière ambiante. La cellule jetable maintient la propreté et la cohérence dans le processus de photorésistance. La source de pression contribue à réduire la déformation du matériau photorésistant lors du spin-coating, et le réservoir média est conçu pour distribuer des solutions photorésistantes. La photorésist SSTF 421280M offre une qualité de dépôt uniforme et fiable en minimisant les variations d'épaisseur, l'homogénéité de la couche, la douceur de surface et les défauts. Il offre également une manipulation précise, des temps de traitement rapides, et un fonctionnement facile. Sa conception avancée permet la rentabilité et la reproductibilité des processus de photolithographie. L'outil peut être utilisé pour diverses applications telles que l'intégration de films secs enduits, MEMS, cellules solaires, semi-conducteurs composés et composants électroniques de haute technologie.
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