Occasion SEMITOOL SSTF221280MBT #293660319 à vendre en France

SEMITOOL SSTF221280MBT est un équipement de photorésistance utilisé dans diverses industries pour le développement de couches minces sur substrats. Ce système offre la technologie de photorésistance la plus avancée, permettant un contrôle précis des procédés de dépôt et de gravure des films. L'unité comporte une chambre de spin verticale, qui est utilisée pour le filage du substrat sur lequel le film sera appliqué photosensible. La chambre maintient le substrat pendant une durée prédéterminée afin d'assurer le dépôt et la gravure uniformes du film. La chambre fonctionne à une vitesse de rotation élevée (jusqu'à 22000 tr/min), ce qui permet d'appliquer le matériau photorésist de manière uniforme sur le substrat. En outre, SEMITOOL SSTF-221-280MBT dispose d'une source lumineuse exposée à deux étages, d'un contrôleur thermique avancé et d'une machine de surveillance de la pression de la chambre. La source lumineuse exposée à deux étages, qui comprend un laser excimère et une lampe à mercure, permet d'appliquer avec précision le matériau photorésist sans créer de bulles d'air. L'outil de contrôle de la pression de la chambre assure en outre le dépôt uniforme du matériau photorésist, en surveillant et en ajustant la pression de la chambre aux niveaux souhaités. En plus des fonctionnalités avancées, SST-F-221-280MBT utilise également les dernières technologies de sécurité. Cet atout comprend un système de sécurité entièrement intégré qui permet à l'utilisateur de faire fonctionner le modèle de manière sûre et efficace. Cela comprend des dispositifs de sécurité améliorés, tels qu'un interrupteur d'arrêt d'urgence, une protection contre la température et un dispositif de verrouillage de sécurité. Dans l'ensemble, SSTF221280MBT est un équipement de photorésistance haut de gamme qui offre une précision, une précision et une sécurité inégalées dans le développement de couches minces sur des substrats. Grâce à sa technologie de photorésistance avancée, l'utilisateur est en mesure d'obtenir une épaisseur de photomasque optimisée, ce qui se traduit par des caractéristiques de film supérieures. Ce système est un choix idéal pour toute production industrielle ou de laboratoire où le développement de films minces est nécessaire.