Occasion SEMITOOL ST 270D #9246163 à vendre en France

SEMITOOL ST 270D est un équipement photorésist qui est conçu pour fournir le plus haut niveau de précision dans le traitement des photomasques de wafer. Ce système est un ensemble à 6 axes, avec la capacité de positionner et de déplacer différents substrats dans une gamme de positions axiales tridimensionnelles. Il a une capacité de cassette de plaquette de chargement supérieur de jusqu'à 50 plaquettes, et peut supporter des diamètres de plaquette entre 100 et 200 mm. La machine est également équipée d'un réseau de sources de plasma qui supportent l'activation de la surface, l'ashing et la gravure. ST 270D est capable d'effectuer des étapes de photolithographie, qui comprennent le revêtement, l'exposition et le développement. Il supporte une variété de photorésistances, y compris des résistances positives, négatives et dual- tonales, et peut fonctionner avec une variété de longueurs d'onde, telles que les UV secs, profonds (longueurs d'onde entre 365 ou 375 nanomètres), et I-line (longueurs d'onde entre 365 ou 410 nanomètres). En outre, l'outil supporte également les méthodes de dépôt par spin-on, d'évaporation par masque et de gravure à sec avancée. L'actif est capable de nettoyer les ions de façon contrôlable et d'asperger neutralement les plaquettes, afin de s'assurer que la résine photosensible est complètement exempte de contaminants avant exposition. Il dispose également d'un contrôle avancé des dépôts énergétiques (EDC) qui offre une gravure uniforme des oxydes et une gamme de sources de plasma pour soutenir la gravure, l'oxydation et le dépôt. En outre, il dispose d'un modèle de mouvement de haute précision, capable de positionner avec précision les photomasques et les plaquettes sur une gamme de tailles, permettant un tissage précis. L'équipement SEMITOOL ST 270D dispose également d'un poste de travail OPC intégré, dans lequel les utilisateurs peuvent effectuer l'optimisation de la conception basée sur des règles pour minimiser les erreurs lithographiques et améliorer l'imprimabilité. Ce système est également équipé du logiciel MaskEdit, qui est conçu pour fournir un contrôle optimal de l'exposition-modulation. Enfin, l'unité fournit des outils avancés d'analyse du rendement qui peuvent être utilisés pour identifier, quantifier et corriger des variables de processus pertinentes à la lithographie à partir d'un large éventail de sources.