Occasion SEMITOOL ST 440 #9194043 à vendre en France

SEMITOOL ST 440 est un équipement de photorésistance conçu pour le traitement des semi-conducteurs. Ce système est capable d'appliquer une couche de résine sur de nombreux substrats dont le silicium, le germanium de silicium, le nitrure de gallium et l'arséniure de gallium d'aluminium. ST 440 dispose d'une plate-forme polyvalente qui offre un large éventail d'options d'exposition et de développement, y compris la projection directe (DP), l'alignement de contact (CA) et l'inversion d'image (IR). La polyvalence de l'unité le rend adapté à la plupart des procédés de photolithographie de production. SEMITOOL ST 440 est équipé d'une chambre de serrure pour le chargement et le déchargement des substrats. Il dispose d'un bras robotique à six axes pour faciliter le déplacement de la plaquette d'une station de chargement et de déchargement d'entrée vers la chambre de traitement. Le bras peut même nettoyer la plaquette après son transfert vers la chambre de traitement. De plus, un bras mécanique est présent pour assurer une manipulation précise et précise du substrat. La machine de photorésistance a un générateur de motifs numériques qui peut générer une vaste gamme de formes et de densités de lignes à travers la couche de résiste. Le générateur de motifs peut être consulté avec une image 2-D ou 3-D. L'outil est également équipé d'une source laser pour l'imagerie et l'alignement. La source laser a une longueur d'onde de 400-430 nm et une résolution de 5 microns. ST 440 utilise un atout d'éclairage qui peut choisir entre le mode diode électroluminescente (LED) pour les applications de faible puissance et le mode lampe inondable pour les applications de forte puissance. Ce modèle d'éclairage est couplé à un étage de précision qui est ajusté manuellement pour assurer un positionnement précis de la couche de résine pour l'exposition. La scène est conçue avec une poignée joystick et un codeur pour assurer une précision maximale. L'équipement contient une chambre de développement en trois étapes, qui permet le développement de la vapeur de solvant, le développement du procédé humide, et le rinçage après le développement. Ceci élimine le besoin de transfert ou de dérapage d'échantillon avant le post-processus. La température de la plaque chaude dans la chambre est contrôlée par un procédé PID qui a une précision de +/-1 degré Celsius. Le modèle développé peut être mesuré et inspecté au microscope télécentrique. SEMITOOL ST 440 peut traiter divers substrats et épaisseurs jusqu'à 200 microns d'épaisseur. Il est capable d'un processus de production rapide et répétable pour le traitement des circuits intégrés (IC). Ce système est équipé d'une interface utilisateur qui permet un réglage facile des paramètres et paramètres pour répondre aux exigences spécifiques. Il est également conçu avec des caractéristiques de sécurité pour assurer la sécurité de l'utilisateur, du substrat et de l'équipement.