Occasion SEMITOOL ST 470 #9207419 à vendre en France

Fabricant
SEMITOOL
Modèle
ST 470
ID: 9207419
Taille de la plaquette: 6"
Spin Rinse Dryer (SRD), 6".
SEMITOOL ST 470 est un équipement de photorésistance puissant et complet conçu pour fournir une large gamme de services précis de revêtement, de développement et de décapage. Ce système est parfait pour la fabrication de fabs sur des substrats rigides et flexibles. ST 470 est équipé d'un microscope électronique à balayage (SEM), d'un revêtement photorésistant, d'une unité précurseur intégrée et d'un processeur de rotation pour un contrôle et une précision optimaux du processus de photolithographie. Le SEM de la machine permet un examen très détaillé des surfaces des échantillons permettant un contrôle dynamique de la forme, de la taille et d'autres paramètres de traitement des photomasques. Ceci permet d'assurer une interface précise entre le dispositif semi-conducteur, le substrat et le photomasque. Le microscope optique haute résolution permet également de déterminer facilement la planéité du substrat, ainsi que de fournir un diagnostic rapide et la vérification du succès de la photolithographie. L'outil précurseur intégré offre une livraison précise de photorésist ou de développeur, permettant une plus grande précision et un meilleur contrôle sur le temps de développement et le processus. Cet actif comprend un réservoir interne pour les produits chimiques, ainsi qu'une puce intelligente qui garde la trace de la quantité de liquide utilisée pour gagner du temps et réduire les déchets. De plus, le SC 470 détient à la fois un processeur de spin et un développeur automatisé utilisant la livraison automatique de solution de développeur à travers les spécimens. Cela garantit que le temps de développement est toujours cohérent et précis pour des résultats uniformes. SEMITOOL ST 470 contient également une plaque chaude très précise, permettant un réglage précis en temps réel de la température pour une performance optimale du film de résistance. La plaque chaude fonctionne en combinaison avec le refroidissement à air intégré du modèle pour fournir un contrôle précis de la température permettant un contrôle précis du processus et de l'épaisseur du film, même sur les substrats difficiles. L'équipement utilise également un système de chargement/déchargement FOUP qui automatise le mouvement des plaquettes, ce qui permet de gagner du temps et de l'effort. L'unité de chargement/déchargement FOUP est également équipée d'un plateau de plaquettes organisé avec des capteurs intégrés pour la surveillance automatisée et la préservation de la position des plaquettes au sein de chaque groupe. ST 470 est une machine de photorésistance avancée offrant une précision et un contrôle supérieurs pour tous les processus de photolithographie. Avec sa gamme de fonctionnalités, cet outil peut fournir un traitement plus efficace et répétable pour les dispositifs semi-conducteurs à couches minces de toute taille.
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