Occasion SEMITOOL TC-30 #293753676 à vendre en France

SEMITOOL TC-30
Fabricant
SEMITOOL
Modèle
TC-30
ID: 293753676
Style Vintage: 1998
Resistivity monitor 1998 vintage.
SEMITOOL TC-30 est un équipement de photorésistance entièrement automatisé très avancé utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs pour les procédés de photolithographie. La photolithographie est une étape clé dans la fabrication de semi-conducteurs, où des motifs sont transférés sur un substrat à l'aide d'un matériau photosensible appelé photorésist. TC-30 système est conçu pour appliquer, développer et enlever les revêtements photorésistants sur les plaquettes semi-conductrices avec une grande précision et efficacité. SEMITOOL TC-30 dispose d'une conception modulaire qui permet une personnalisation basée sur des exigences de processus spécifiques. L'unité comprend plusieurs modules de processus tels que le revêtement de spin, la cuisson, l'exposition aux UV et les stations de développement, tous intégrés dans une plate-forme unique pour un fonctionnement sans soudure. Chaque module est équipé de fonctionnalités avancées et de contrôles pour assurer une performance optimale et la cohérence dans le processus d'application de la résine photosensible. Un des composants clés de TC-30 machine est le module de revêtement de spin, qui est utilisé pour appliquer une couche uniforme de matériau photorésist sur la surface du substrat. L'outil est capable de contrôler la vitesse de rotation, l'accélération et le temps pour atteindre l'épaisseur et l'uniformité souhaitées du revêtement photorésist. Ce contrôle précis est essentiel pour obtenir des motifs à haute résolution et des largeurs de ligne précises dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Après application de la résine photosensible, le substrat est transféré à la station de cuisson pour traitement post-application. Le procédé de cuisson consiste à chauffer le substrat pour chasser les solvants et créer un film uniforme de photorésist. L'actif SEMITOOL TC-30 dispose de paramètres programmables de température et de temps pour optimiser le processus de cuisson pour différents types de matériaux et substrats photorésistants. Une fois le processus de cuisson terminé, le substrat est déplacé vers la station d'exposition aux UV pour un transfert de motifs. Le module d'exposition UV utilise une lumière ultraviolette de haute intensité pour exposer sélectivement le matériau photorésist à travers un photomasque, créant ainsi le motif désiré sur le substrat. TC-30 modèle offre un contrôle précis de la dose d'exposition et la précision d'alignement pour atteindre la résolution submicronique dans le transfert de modèle. Après exposition, le substrat est transféré à la station de développement où la résine photosensible non exposée est enlevée pour révéler les caractéristiques décrites. Le processus de développement consiste à immerger le substrat dans une solution de développement qui dissout la résine photosensible non exposée tout en laissant derrière elle les zones structurées. L'équipement SEMITOOL TC-30 fournit des recettes de développement personnalisables et des paramètres d'agitation pour assurer un développement cohérent et uniforme sur tout le substrat. En plus de ses fonctionnalités de base, le système TC-30 est équipé de fonctionnalités avancées d'automatisation et de contrôle pour rationaliser les opérations et maximiser le débit. L'unité est capable de manipuler plusieurs substrats simultanément, augmentant l'efficacité et la productivité dans la fabrication de semi-conducteurs. En outre, la machine SEMITOOL TC-30 est équipée de capacités complètes de surveillance et de diagnostic pour assurer le contrôle et la traçabilité des processus en temps réel. Dans l'ensemble, TC-30 est un outil photorésist de pointe qui offre précision, fiabilité et flexibilité pour les procédés avancés de fabrication de semi-conducteurs. Sa conception modulaire, son contrôle avancé des processus et ses fonctionnalités d'automatisation en font une solution idéale pour les environnements de production à haut volume nécessitant des normes de performance et de qualité rigoureuses dans les applications de photolithographie.
Il n'y a pas encore de critiques