Occasion SEMITOOL WST-306MG #9014933 à vendre en France

Fabricant
SEMITOOL
Modèle
WST-306MG
ID: 9014933
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1999
Spray solvent tool, 8" Front loading with on-axis spin Self-contained fluid dispensing and recirculation System surfaces that come in contact with solvent solutions are stainless steel or Teflon coating System spray and atomizing manifolds provide flexible patterns for fluid delivery Microprocessor controlled process recipes perform system functions Rotor Installed for 8", p/n A192-81M-0215 Power requirements: 208 V, 40 A, 50/60 Hz, 3 Phase 1999 vintage.
SEMITOOL WST-306MG est un équipement de photorésistance conçu pour le traitement des plaquettes haute performance. Ce système est idéal pour créer des structures nanométriques pour des applications avancées de dispositifs. Il dispose d'une unité de chargement automatisée pour des plaquettes jusqu'à 6 "ainsi que d'une machine programmable de chauffage/réfrigérant pour un contrôle précis de la température. L'outil photorésist comprend également une atmosphère contrôlée pour éviter l'oxydation lors du traitement. WST-306MG comprend plusieurs caractéristiques avancées pour le traitement précis des plaquettes revêtues de résines photosensibles. Il dispose de trois niveaux d'optique automatisée pour déterminer la focalisation exacte de chaque motif sur la plaquette. Une table de substrat de précision permet l'alignement de la plaquette revêtue de photorésist avant le traitement. Cet alignement est important pour les films de grande surface afin de prévenir la distorsion du motif lors de l'exposition. De plus, des réglages automatisés de la focalisation et de la position de l'étage peuvent être effectués pendant le traitement. SEMITOOL WST-306MG utilise un moteur pas à pas de précision pour déplacer la plaquette à des étapes prédéterminées à travers la zone à exposer. En outre, il dispose d'un fort facteur d'illumination pour permettre la structuration 3D du matériau. Le modèle est conçu pour s'intégrer aux systèmes CAO standard afin de permettre un transfert de motif simple. L'équipement photorésist a été conçu pour une fiabilité et des performances constantes. Il dispose d'une rigidité robuste sans vibrations pour assurer un alignement optimal tout au long du processus. Ses capacités de traitement à sec sous-ambiant assurent une application de haute qualité des films de résines photosensibles. De plus, son interface conviviale rend le fonctionnement simple et efficace. WST-306MG est finalement idéal pour les applications de recherche à l'échelle nanométrique, telles que la fabrication de photomasques, la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, la fabrication de masques de lithographie, le dépôt de couches minces et la production d'éléments optiques, entre autres applications. Son optique avancée et son environnement contrôlé permettent un traitement précis et précis pour créer des structures nanométriques. Ces nanostructures peuvent ensuite être utilisées dans le développement de dispositifs et de produits avancés.
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