Occasion SEMITOOL WST-306MI #142239 à vendre en France

SEMITOOL WST-306MI
Fabricant
SEMITOOL
Modèle
WST-306MI
ID: 142239
Taille de la plaquette: 6"
Wafer solvent tool, 6".
SEMITOOL WST-306MI Photoresist Equipment est un système de photolithographie avancé conçu pour offrir des solutions de traitement de précision. Il utilise la lumière ultraviolette (UV) et un matériau photoréactif pour créer des structures sur des substrats semi-conducteurs et d'autres matériaux. L'unité est une machine à deux bras avec deux réservoirs distincts, un pour le traitement et un pour le rinçage, et a la capacité de mesurer et de contrôler la dose UV et les niveaux de focalisation pendant l'exposition. WST-306MI machine photorésist dispose d'un étage d'alignement pas à pas haute résolution avec un contrôle à la fois grossier et fin. Le pas a une répétabilité d'alignement très stable de ± 1,5 μ m et une taille de pas de 0,1 μ m. Il a une gamme de paramètres d'exposition allant du champ plein à l'exposition ultra-dure en utilisant 1, 2 et 4 taches d'exposition et une résolution allant jusqu'à 0,5 μ m. La durée d'exposition aux UV peut varier de 10 secondes à 10 minutes. L'outil SEMITOOL WST-306MI offre un contrôle avancé des processus, une automatisation et une sécurité telles que l'anti-combustion, l'anti-slosh, le moniteur de dose et le contrôle de l'exposition en temps réel. L'actif dispose également d'un modèle intégré de manutention des plaquettes avec des modes de traitement in-tank, cassette-to-cassette et charge in-situ, déchargement et cartographie. Le système avancé de contrôle de la contamination de l'équipement peut effectuer des rinçages répétitifs propres et désionisés avec un léger dommage au substrat tout en maintenant un faible nombre total de nucléations. L'unité de manutention, ainsi que les algorithmes anti-drainage, anti-escalade et de nettoyage intelligent, garantissent que les niveaux de particules restent bien conformes aux normes de l'industrie en matière de niveaux de particules et de propreté. WST-306MI Photoresist Machine a été conçu pour la précision, la répétabilité et le contrôle des processus, ce qui en fait un choix idéal pour une grande variété d'applications de lithographie. Il offre une solution efficace, sûre et rentable pour tous les projets nécessitant des détails de niveau micron et une grande précision. Avec ses caractéristiques uniques, SEMITOOL WST-306MI en fait le choix idéal pour la lithographie de précision pour la fabrication de semi-conducteurs de pointe et d'autres applications en nanotechnologie.
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