Occasion SEMIX Opus 2/3 #293650490 à vendre en France

SEMIX Opus 2/3 est un équipement de photorésistance conçu pour produire des dispositifs à haute résolution avec des défauts minimes. Il est fabriqué par la société mondiale SEMIX, un fournisseur de pointe de technologies de photolithographie. Le système offre des performances de lithographie haut de gamme et des tailles de 20 nm et plus. Il se compose de deux composantes principales : l'outil Optic Pro et l'unité de gestion Wafer (WMS). L'Optic Pro est le composant principal de la machine SEMIX Opus 2/3, chargée d'apporter des images haute résolution à la plaquette. Il dispose d'un réseau unique de composants optiques qui travaillent ensemble pour créer une image haute contraste, puis trame décalée du motif désiré sur la plaquette. Le WMS, en revanche, est le composant d'équilibrage et de commande de l'outil. Il fournit une interface physique entre l'Optic Pro et la plaquette, la gestion du flux de produits chimiques, les mouvements mécaniques, et d'autres conditions environnementales nécessaires pour le processus de lithographie. Il utilise des systèmes de contrôle avancés pour surveiller et ajuster divers paramètres tels que la température, la pression et l'exposition à la lumière afin d'assurer la précision et la répétabilité. SEMIX Opus 2/3 asset process commence par appliquer une couche photopolymère photosensible connue sous le nom de photorésist sur une plaquette de silicium. Une fois cette couche appliquée, l'outil Optic Pro projettera un masque du motif désiré sur la plaquette via une optique de diffraction à plusieurs niveaux. Au fur et à mesure que la lumière traverse ce motif, elle sera bloquée ou transmise en fonction des exigences de conception. Toutes les zones où la lumière est bloquée seront protégées de la solution du développeur et resteront non gravées. Le reste de la plaquette sera lavé, ne laissant derrière lui que le motif désiré. L'étape suivante est le processus de rinçage. Ici, la couche de résistance indésirable est rincée loin de la plaquette, laissant derrière elle un motif net et propre. La résine est ensuite retirée de la résine photosensible avec un outil spécialisé en bande sèche/humide. Enfin, la plaquette préparée est dédicacée dans les structures du dispositif et inspectée pour déceler toute imperfection. SEMIX Opus 2/3 est un modèle photorésist efficace et précis qui permet la production de microdevices de haute qualité avec des défauts minimes. Il est idéal pour produire les meilleurs designs avec les matériaux les plus innovants sur le marché.