Occasion SEMIX / TOK SG-2 #167184 à vendre en France

SEMIX / TOK SG-2
Fabricant
SEMIX / TOK
Modèle
SG-2
ID: 167184
SOG silicon dioxide coating machine Model Number: OLD-TR-6142TRUDFD-TM Missing parts.
SEMIX/TOK SG-2 est un équipement de photorésistance développé par Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. (TOK). C'est un système très efficace et précis conçu spécifiquement pour la formation d'images, utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs, de PCB et de composants MEMS. TOK SG-2 se compose de deux composants primaires : une photorésist et un substrat. La résine photosensible est un matériau liquide photosensible appliqué sur un substrat semi-conducteur ou PCB. Il contient un bain chimique photosensible qui réagit à la lumière visible ou ultraviolette et forme une image comme il est exposé à la lumière. La composition chimique du matériau photorésiste est telle que son exposition à la lumière diminue ou augmente sa résistance électrique, créant ainsi un motif sur le substrat. La résine photosensible est ensuite exposée à une source de lumière activante, telle que le rayonnement laser, la lumière UV ou les rayons X, et projetée sur le substrat du circuit semi-conducteur ou imprimé. En exposant sélectivement différentes parties du matériau photorésistant à la source lumineuse activante, il crée des motifs sur le substrat. On procède ensuite à une étape de post-traitement chimique pour affiner encore le motif. SEMIX SG-2 est conçu pour produire des images précises et de haute qualité avec un nombre minimum d'étapes de gravure. L'unité est capable de produire de petits motifs complexes à haute résolution avec un nombre minimum d'étapes se chevauchant. Il est également très efficace, car la machine photorésist ne prend que quelques minutes à mettre en place et peut produire de nombreuses images en peu de temps. SG-2 outil est très précis et efficace dans la production d'images et de modèles pour une variété d'applications. Elle est particulièrement utile dans la réalisation de semi-conducteurs, de cartes de circuits imprimés et de composants MEMS. L'actif photorésist offre des impressions haute résolution à une fraction du coût des procédés de gravure traditionnels. En outre, la rapidité et la précision du procédé le rendent idéal pour le prototypage, la production ou les applications à petite échelle.
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