Occasion SEMIX / TOK / TAZMO SOG #9097200 à vendre en France

SEMIX/TOK/TAZMO SOG est un système de photorésistance spécialisé développé par Asahi Glass Co. Ltd. Il est utilisé pour produire des lignes ultrafines dans le processus de fabrication d'une variété de dispositifs électroniques et semi-conducteurs. Le système se compose de trois composantes principales : une unité d'exposition de 4 positions, un solveur pour le contrôle de l'exposition fine et un outil de post-traitement. L'unité d'exposition de 4 positions est conçue pour optimiser le temps d'exposition, la concentration et l'intensité pour chaque zone exposée. Il est capable de s'exposer à une large gamme de matériaux résistants jusqu'à une fine largeur de tracé de 0,75 μ m. Le solveur utilise un modèle optique optimisé pour une précision et une répétabilité maximales du contrôle de l'exposition. Cela permet d'améliorer la résolution et les paramètres de fixation reproductibles. L'outil de post-traitement est utilisé pour définir les paramètres de démarcation de ligne et ajuster le temps d'exposition pour ajuster le motif de ligne et résister à la résolution. Le système TOK SOG diffère des systèmes traditionnels de photolithographie en ce sens qu'il a un temps de traitement plus court pour obtenir des lignes fines et une résolution plus élevée. Le plus fin résiste et la résolution ultra-fine des lignes permettent d'augmenter la densité des motifs et la flexibilité de conception. La résolution et la répétabilité améliorées permettent également une meilleure précision du motif et un meilleur rendement. SEMIX SOG est idéal pour des applications telles que les cartes de circuits imprimés, la production de semi-conducteurs, la production de dispositifs médicaux et d'autres applications de fabrication de lignes ultrafines. Sa résolution et son efficacité améliorées en font un choix attrayant pour ceux qui cherchent à réduire le temps de traitement et à augmenter le rendement de leurs processus de production.