Occasion SEMIX TR 6133UD #9284320 à vendre en France

SEMIX TR 6133UD est un équipement de photorésistance haute performance offrant une résolution exceptionnelle, une faible distorsion, une grande stabilité des procédés et des déchets chimiques faibles. C'est un système entièrement automatisé et programmable conçu pour minimiser le temps et les coûts de main-d'œuvre lors de l'exécution de processus de photolithographie avancés. L'unité de photorésistance utilise une machine avancée d'exposition au vide qui utilise la modulation d'exposition à la lumière comme technologie d'outil primaire. L'actif est capable d'exposer des caractéristiques avancées avec une grande précision, une grande répétabilité et une faible distorsion thermique. La résolution améliorée et la stabilité élevée du processus rend TR 6133UD idéal pour créer des tailles de fonctionnalités extrêmement petites et précises. La caractéristique la plus notable de SEMIX TR 6133UD est sa capacité à fournir un contrôle avancé et précis de la taille des fonctionnalités, contrairement aux systèmes optiques traditionnels. Le modèle utilise des masques optiques spécialement conçus avec des dépôts diélectriques multicouches qui permettent d'exposer la résine photosensible à une fréquence d'exposition plus élevée pour obtenir des caractéristiques plus fines jusqu'à des tailles de nm. TR 6133UD est également conçu pour minimiser les déchets chimiques lors des processus de lithographie. Pour ce faire, on utilise une combinaison d'eau et de tensioactif pour réduire les déchets chimiques. De plus, l'équipement utilise un cycle de régénération en boucle fermée qui minimise le risque de contamination croisée pendant le processus de regen et améliore les rendements du processus. Le SIMIX SEMIX TR 6133UD est conçu pour faciliter les processus de lithographie les plus avancés, y compris les techniques DWELL (Direct Write Electronic Lithography). Le système est compatible avec de multiples solutions de revêtement et de spin-coating, permettant l'utilisation de revêtements spécialisés en couches minces pour les substrats minces et épais. L'unité dispose également d'une fonctionnalité avancée de surveillance de la température et de l'humidité intégrée, permettant aux utilisateurs de s'assurer que leurs processus sont exécutés dans des conditions exactes à chaque fois. La machine de programmation puissante et automatisée permet à l'utilisateur de contrôler facilement des paramètres tels que la température, le temps d'exposition et l'humidité afin d'obtenir des résultats supérieurs. L'outil de photorésistance TR 6133UD est un outil avancé, très précis et programmable conçu pour répondre aux besoins les plus exigeants du processus de photolithographie avancée. L'actif offre une stabilité accrue des processus et une réduction des déchets chimiques, garantissant une résolution et une précision supérieures.