Occasion SEZ / LAM RESEARCH 4300 #293587004 à vendre en France

SEZ/LAM RESEARCH 4300 Photoresist Equipment est un outil révolutionnaire conçu pour des applications telles que le traitement de plaquettes semi-conductrices, la fabrication de dispositifs microélectroniques et d'autres opérations de précision. Ce système est équipé d'un outil de lithographie de niveau de production 200mm de classe 1. Il permet un fonctionnement rapide de l'unité, résiste avec précision à l'exposition et une excellente résolution, ainsi que la flexibilité et l'évolutivité. SEZ/LAM4300 dispose d'une machine de manutention des plaquettes qui se compose d'un implanteur d'ions et d'un évaporateur à faisceau d'électrons. Cela permet de résister avec précision à l'application et aux modifications de profil, qui peuvent toutes deux être réalisées avec succès sur des substrats de tailles variables. L'outil permet des paramètres d'exposition multiples qui peuvent être personnalisés pour les exigences exactes d'un projet. La suite logicielle MaximusMC peut également être utilisée pour surveiller et contrôler l'actif, ce qui garantit une performance de résistance constante pour les processus reproductibles. Le modèle utilise un équipement optique puissant composé de la technologie FOUP (Front-Opening Unified Pod) et est construit pour le fonctionnement à haut débit. Le FOUP permet un transfert rapide de plaquettes entre ses porteurs internes et le DPS (Direct Plasma Sprayer). Le DPS est un outil de lithographie compatible 300mm qui focalise le faisceau d'ions pour graver précisément la résistance. La suite d'outils Ette est intégrée au DPS, ce qui permet d'ajuster rapidement et facilement les paramètres d'exposition. LAM RESEARCH/LAM SEZ 4300 dispose également d'un ensemble de fonctionnalités avancées telles qu'une bibliothèque approfondie de recettes d'exposition et des profils de résistance prédéfinis. Il permet de personnaliser complètement les processus de gravure, y compris les patterend et les gravures uniformes. Le système dispose également de l'interface Endura, qui est conçu pour fournir un accès à la fonctionnalité multicloud et soutenir la production de masse. Enfin, l'unité de photorésistance SEZ/LAM RESEARCH/LAM LAM RESEARCH 4300 est couplée à un service et un support globaux et répond aux normes de conformité telles que SEMI S2, J-STD-001 et IEC60881.