Occasion SEZ / LAM RESEARCH 4300 #293598011 à vendre en France

SEZ/LAM RESEARCH 4300 est un équipement de photorésistance conçu pour aider les fabricants de semi-conducteurs dans le processus de lithographie. C'est un équipement de haute précision utilisé pour identifier et doser avec précision la résine photosensible utilisée dans les processus de lithographie. La SEZ 4300 utilise un contrôle de processus breveté basé sur des algorithmes pour analyser, identifier et doser précisément les photorésistes dans une unité intégrée. Il peut être facilement intégré dans le flux de travail existant du système de lithographie. L'unité LAM RESEARCH 4300 permet une grande variété d'applications photorésistantes, de l'ultra-violet profond (DUV) au faisceau d'électrons (EB). Il est composé de plusieurs composants, dont une source lumineuse, un applicateur de photorésist, une table de substrat et un module de contrôle. La source lumineuse fournit une image lumineuse constante et uniforme sur l'ensemble du substrat pour une distribution photorésistante uniforme. L'applicateur de photorésist est composé de vannes de distribution, d'une tuyère de distribution et d'une tête de distribution permettant un contrôle précis du procédé de distribution de photorésist. La table de substrat supporte le substrat avant de l'exposer à la source lumineuse. En plus de fournir une application photorésist précise et fiable, la machine a également d'autres caractéristiques bénéfiques. Il dispose d'un outil de vision embarqué capable de détecter toute irrégularité à la surface du substrat, assurant ainsi des résultats de haute qualité. Son atout de reconnaissance automatique du substrat permet d'identifier rapidement la dimension et le motif du substrat avant l'exposition. Son modèle d'enregistrement des données à bord fournit des données détaillées et une analyse statistique du processus. 4300 est un équipement de pointe d'inhibiteurs de photorésist conçu pour donner aux fabricants plus de contrôle et de souplesse dans leur processus de lithographie. Il peut réduire considérablement la consommation de photorésist et améliorer les taux de rendement, ce qui permet aux fabricants de semi-conducteurs de gagner en efficacité et en coûts.