Occasion SEZ / LAM RESEARCH 4300 #293652063 à vendre en France

L'équipement de photorésistance SEZ/LAM RESEARCH 4300 est un outil spécialisé utilisé pour le traitement de la fabrication de semi-conducteurs. Le système utilise la photolithographie, un procédé qui consiste à transférer un motif désiré d'un masque sur un substrat semi-conducteur. L'unité SEZ 4300 est conçue pour produire rapidement et avec précision des revêtements photorésistants sur substrats. La machine LAM RESEARCH 4300 utilise une source lumineuse à haute puissance et un étage d'exposition à l'obturateur. Cet étage d'exposition utilise un réseau de diodes LED, bloquant et débloquant l'exposition au substrat. Cette étape d'exposition est très précise, avec une résolution de 15 microns et une répétabilité de +/- 3 microns. L'étage d'exposition est également conçu pour être extrêmement rapide, avec une vitesse d'obturation allant jusqu'à 50 microsecondes. 4300 est renforcée par ses exigences minimales en matière d'entretien. L'outil a un actif de nettoyage intégré et utilise un mandrin sous vide pour la manutention des plaquettes. Cela élimine les étapes de nettoyage manuel et réduit les risques de contamination. Le modèle SEZ/LAM RESEARCH 4300 dispose également d'assemblages de revêtement de spin montés à l'avant. Les assemblages fournissent une couche cohérente et uniforme de résine photosensible sur le substrat. Les assemblages de revêtement de spin minimisent les déchets et empêchent la formation d'épaisseurs de revêtement inégales, en maintenant les coûts de la résine photosensible faibles. L'équipement SEZ 4300 comprend un logiciel basé sur PC qui peut être configuré pour exécuter des processus et des recettes spécifiques. Ce logiciel, avec les composants sophistiqués de LAM RESEARCH 4300, augmente la répétabilité et la vitesse de production, assurant des couches photorésistantes de meilleure qualité. Dans l'ensemble, 4300 photorésist est une unité avancée et fiable conçue pour créer rapidement et précisément des revêtements photorésistants sur des substrats. La vitesse d'exposition rapide de la machine et le contrôle précis de l'exposition produisent des motifs photorésistants cohérents et reproductibles avec des exigences minimales d'entretien. Ceci fait de SEZ/LAM RESEARCH 4300 un outil inestimable pour la production de semi-conducteurs.