Occasion SEZ / LAM RESEARCH 4300 #293662192 à vendre en France

SEZ/LAM RESEARCH 4300 Photoresist Equipment est un système de photolithographie de pointe conçu pour le développement de dispositifs semi-conducteurs haut de gamme. L'unité dispose d'un grand alignement de masque numérique haute résolution avec une ouverture numérique de 0,5 et une taille de champ de 12,7 microns, ce qui le rend idéal pour la fabrication de l'appareil. La machine comprend également une unité de distribution auto-nettoyante de haute précision pour le dépôt de matériaux photorésistants et une suite logicielle conviviale pour contrôler l'ensemble du processus. L'outil utilise un processus en plusieurs étapes pour déposer et modeler le matériau photorésist. On distribue d'abord une couche de photorésist sur le substrat, puis on utilise un laser guidé par ordinateur pour exposer le matériau de photorésist au motif désiré. Ensuite, le substrat est exposé à une lumière ultraviolette intense afin de durcir le matériau photorésist exposé. Enfin, le substrat est soumis à une série de procédés chimiques afin d'améliorer la résolution du motif final. SEZ 4300 est conçu pour fournir une résolution et une précision supérieures pour la fabrication des appareils. L'actif est conforme au protocole de photorésist standard de l'industrie et peut supporter les exigences de profil de photorésist négatif et positif. Le modèle offre également la possibilité d'effectuer à la fois une lithographie au niveau des plaquettes et des puces, ainsi que plusieurs séries du même motif. L'équipement LAM RESEARCH 4300 assure un traitement cohérent et reproductible. Le système dispose de capacités intégrées d'enregistrement des données, qui peuvent être utilisées pour surveiller les paramètres du processus et assurer l'uniformité, ainsi que pour détecter les conditions de non-tolérance. De plus, l'unité est équipée de fonctions sophistiquées, mais faciles à utiliser, qui simplifient les processus de gravure, de lithographie et de dépôt. Au total, 4300 est un choix idéal pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs avancés. Avec ses capacités de traitement d'image haute résolution, son unité de distribution robuste et sa suite logicielle avancée, la machine peut fournir des solutions rentables pour les applications de photolithographie les plus exigeantes.