Occasion SEZ / LAM RESEARCH 4300 #9211221 à vendre en France

SEZ/LAM RESEARCH 4300 Photoresist Equipment est un système de photorésist automatisé de haute performance et de grande capacité conçu pour le dépôt de photorésist et de matériaux photomasques. Il est équipé de caractéristiques avancées permettant de contrôler avec précision le processus photorésist pendant le dépôt. L'unité contient deux chambres de traitement indépendantes et fournit des capacités avancées de prétraitement, de cuisson et de post-traitement pour une variété de matériaux photorésistants et photomasques. SEZ 4300 Photoresist Machine dispose d'une chambre de dépôt pleine taille de 8 « x 8 » avec un étage mobile qui permet une épaisseur précise et répétable de la couche de photorésist. Cette étape peut être actionnée manuellement ou automatiquement à l'aide d'un logiciel de contrôle informatique. L'outil comprend également une étape de chauffage/refroidissement Linkam (LHS) qui crée un environnement de chauffage uniforme pour un contrôle optimal des processus de photorésistance. LAM RESEARCH 4300 dispose d'un bras robotique entièrement automatisé pour une manipulation précise du substrat et d'un outil de rétroaction en boucle fermée pour la surveillance et le contrôle de l'épaisseur de la couche de résine photosensible. Il comprend également un modèle d'étalonnage normalisé pour un étalonnage précis et un contrôle précis de l'épaisseur de la couche de résine photosensible. 4300 est également équipé d'instruments avancés de contrôle des procédés tels qu'un profilomètre à faisceau laser pour les mesures de planéité et de rugosité de surface du substrat et un spectromètre de masse pour la surveillance en ligne de la composition de la résine photosensible. Les équipements SEZ/LAM RESEARCH 4300 offrent des débits élevés et des couches de résines photosensibles à haut rendement pour une variété de substrats et de tailles de substrats. Il est également compatible avec une variété de matériaux photomasques et peut être utilisé pour contrôler et ajuster le masque à la précision d'enregistrement du substrat. Le système comprend une interface utilisateur hautement configurable pour une intégration facile avec les environnements de production existants. SEZ 4300 Photoresist Unit est une machine de dépôt de photorésist haute performance, idéale pour le développement de procédés, la production et les applications de recherche. L'outil permet de contrôler avec précision le processus photorésist pendant le dépôt et fournit des couches de dépôt uniformes pour les matériaux photorésist et photomasque. Grâce à son automatisation avancée, à sa rétroaction en boucle fermée, à ses moyens d'étalonnage standard et à ses caractéristiques de sécurité intégrées, le modèle offre des dépôts photorésistants précis et fiables avec des débits et des rendements élevés.