Occasion SEZ / LAM RESEARCH Gamma GXT #9226988 à vendre en France

RECHERCHE SEZ/LAM Gamma GXT est un équipement de photorésistance utilisé pour compléter des applications telles que la fabrication de masques, le transfert de motifs et d'autres processus sensibles qui nécessitent un contrôle précis de l'exposition de couches minces de matériau photoprocessable aux sources lumineuses. Il a été spécialement conçu pour produire un traitement fiable et optimiser le rendement, tant sur les configurations des modules de production que de R&D. Ce système dispose de logiciels propriétaires, de contrôles et de matériel SEZ a spécialement adapté pour ses applications prévues. A son cœur, une unité de photorésistance de type SEZ Gamma GXT fonctionne en exposant efficacement des couches minces de matériau photoprocessable à une lumière ultraviolette incidente (UV) ou des faisceaux d'électrons pour modifier sa structure ou ses propriétés chimiques. Il se compose typiquement d'un revêtement en résine, d'un développeur de photorésist, d'une source lumineuse, d'une machine à lentilles et d'un étage de plaquette. RECHERCHE LAM Gamma GXT est responsable de l'application d'une couche uniforme et précise de photocouches sur le substrat avant la fixation. Pour ce faire, on utilise des têtes de revêtement spéciales qui produisent un film solide, qui peut être contrôlé avec précision par une combinaison de paramètres manuels et réglables par l'utilisateur. Ensuite, les plaquettes sont placées sur une scène motorisée et déplacées vers le développeur de photorésist. En cela, le mélange et les solutions chimiques vont dissoudre les parties exposées de la résine photosensible, formant ainsi les motifs désirés. Le développeur demande aux utilisateurs de gérer les paramètres du processus tels que les temps de cycle et la température avec une grande précision afin de créer des modèles précis avec des tolérances serrées. La source lumineuse est un élément crucial de tout outil Gamma GXT typique et est responsable de l'exposition des plaquettes aux lumières UV. Il peut être configuré pour correspondre aux longueurs d'onde, aux longueurs d'impulsions et aux paramètres de niveau d'énergie désirés. Un ensemble optique avancé qui comprend des éléments de focalisation, des lentilles et des miroirs, ainsi qu'un actif obturateur, est chargé de diriger la lumière sur l'étage de la plaquette. Ceci garantit que seule la zone sélectionnée du matériau photoprocessable est exposée à la lumière et que les autres zones ne sont pas affectées. Enfin, l'étage de plaquette maintient solidement le substrat en position pendant le processus d'exposition et doit être synchronisé avec le mouvement de tous les autres composants du modèle. SEZ/LAM RESEARCH La série Gamma GXT offre un étage flexible et réglable avec une large gamme de capacités de mouvement pour répondre aux différents besoins de traitement. Dans l'ensemble, SEZ Gamma GXT est conçu pour fournir précision, précision et fiabilité lors des processus d'application de photorésist à haut volume. Il possède des capacités d'automatisation avancées, une qualité de traitement optimisée et une gestion environnementale supérieure, ce qui en fait une solution fiable pour la plupart des besoins de production et de développement de photomasques.