Occasion SHANGHAI CENTURY SC2645 #9269006 à vendre en France

ID: 9269006
Coating machine.
SHANGHAI CENTURY SC2645 est un équipement ultramoderne de revêtement et d'exposition de résines photosensibles conçu pour des procédés avancés basés sur la photolithographie dans la fabrication de semi-conducteurs. Il convient à la fois à la gravure humide et à la gravure sèche et peut manipuler des plaquettes jusqu'à 8 pouces de diamètre. SC2645 système photorésist est composé de plusieurs composants différents. Le coeur de l'unité est constitué d'un enrobeur à pulvérisation humide et d'un capillaire. Le revêtement est composé d'un boîtier en acier inoxydable, d'un pistolet à pistolet et d'un mécanisme d'inclinaison de l'étage de la plaquette. Le pistolet de pulvérisation a une buse réglable qui peut être ajustée pour le dépôt de particules par pulvérisation dirigée et ciblée. Le capillaire fournit un flux régulier et contrôlé de matière photorésistante au pistolet à pulvérisation. La machine comprend également deux unités de lithographie, qui peuvent gérer à la fois l'exposition de contact et de proximité. Ces unités d'exposition sont équipées de scanners laser qui peuvent générer des motifs avec une excellente précision et précision. Les scanners peuvent ajuster l'intensité lumineuse, la focalisation, l'angle d'alignement, le temps d'exposition et la longueur du faisceau pour générer une exposition optimisée. La station de séchage de l'outil SHANGHAI CENTURY SC2645 est un four à plaque chauffante haute vitesse équipé de thermomètres infrarouges et d'un ventilateur haute capacité. Le four peut être réglé à des températures allant de 90 à 330 degrés Celsius, la durée du séchage étant contrôlée par un minuteur réglable. Cela garantit que les plaquettes sont uniformément exposées et séchées et fournit des résultats cohérents. Pour terminer le processus de revêtement photorésist, SC2645 asset dispose d'une chambre de développement chimique équipée d'un modèle de pompe de filtration fixée. La chambre est pressurisée et peut être chauffée jusqu'à 200 degrés Celsius pour accélérer le développement. La pompe de filtration permet de s'assurer que les travaux de mauvaise qualité n'entrent pas dans le processus, améliorant ainsi le contrôle de la qualité. L'équipement comprend également une unité de filtration, une pompe à vide et un système de refroidissement. Tous ces composants sont conçus pour fournir un processus de photolithographie cohérent et rentable qui peut constamment produire des résultats de haute qualité pour la fabrication avancée de semi-conducteurs.
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