Occasion SHOWA FA-7SRN #9119347 à vendre en France

SHOWA FA-7SRN est un équipement de photorésistance conçu pour un large éventail d'applications pour transférer des caractéristiques micrométriques sur des matériaux de substrat. Au cœur, le système fonctionne par photolithographie. La photolithographie utilise la lumière pour créer des couches ou des motifs sur un substrat. FA-7SRN unité permet la gravure et la mise en forme des caractéristiques à travers le matériau du substrat. Pour ce faire, le balisage se fait en plusieurs étapes. Tout d'abord, le matériau du substrat est recouvert d'une résine photosensible. Ensuite, un photomasque est placé sur le substrat qui contient le motif de caractéristique désiré. La lumière est passée à travers le photomasque et à son tour expose et durcit le matériau photorésist dans les zones qui feront partie de la caractéristique. Il est important que la lumière soit à la fois suffisamment forte et de la bonne longueur d'onde pour réduire le matériau photorésist avec précision. Une fois la fonction durcie, elle est alors protégée de toute gravure ultérieure ou contact avec l'eau. Un graveur est utilisé pour éliminer la résine photosensible recouvrant les zones autour de la caractéristique, exposant le matériau du substrat. Ce processus se fait en couches, avec des photomasques supplémentaires utilisés pour chaque couche. Finalement, le motif complet est transféré sur le matériau du substrat. La machine SHOWA FA-7SRN utilise un logiciel de pointe et une lampe puissante pour augmenter la vitesse et la précision du processus de photolithographie. L'outil offre également aux utilisateurs la flexibilité d'utiliser différents types de photomasques ou de créer leur propre conception de masque personnalisé. Toutes ces caractéristiques permettent un tissage précis qui peut être utilisé pour une grande variété d'applications, telles que la fabrication de cartes de circuits imprimés ou de puces microfluidiques. Dans l'ensemble, FA-7SRN est un outil puissant qui permet aux utilisateurs de transférer des caractéristiques de niveau micrométrique sur une variété de matériaux de substrat. Ses fonctionnalités complètes et ses logiciels avancés en font un outil idéal pour toute application qui nécessite une description précise.