Occasion SHOWA SFE-6130D #9020782 à vendre en France

Fabricant
SHOWA
Modèle
SFE-6130D
ID: 9020782
Ion beam frequency adjuster Set up to plate 5x7 oscillators ULVAC WD401 Vacuum pump LEYBOLD Turbo vac 1100C Includes: Frequency counter Power supplies Multi meter with extra filaments Dual plates: Crystal, oscillator Computer Documentation.
L'équipement photorésist SHOWA SFE-6130D est un processus entièrement automatisé et intégré en plusieurs étapes conçu pour développer, modeler et graver des composants électroniques, créant des microcircuits intégrés pour diverses applications. Le système utilise une combinaison de procédés électrochimiques, thermiques et chimiques pour créer des microstructures ultra fines et à haute résolution. SFE-6130D se compose d'une source lumineuse, d'une unité de masquage/illumination, d'une tête d'impression photorésistante, d'un développeur, d'un inspecteur et d'un processeur de média (média de gravure). L'unité de masquage/éclairage contient des optiques de précision qui focalisent avec précision la lumière de la source lumineuse sur un composant électronique qui est monté sur un étage photolitographique. La tête d'impression photorésiste applique alors un matériau (photorésist) sensible à la lumière afin de modeler sélectivement une zone du composant électronique. Une fois la résine photosensible appliquée, elle est ensuite précuite et exposée à la lumière ultraviolette afin de réduire la solubilité (gravabilité) des zones non éclairées. Un révélateur est alors utilisé pour éliminer les zones non éclairées de la résine photosensible, ne laissant que les zones désirées exposées. Pour vérifier la qualité du motif photolithographique, un inspecteur est généralement utilisé pour inspecter le motif pour déceler des défauts ou d'autres imperfections. La dernière étape consiste à graver le matériau indésirable du composant électronique, en créant la microstructure désirée. Pour cette étape, un processeur de milieu de gravure fournit une solution de gravure, telle que l'acide chlorhydrique, qui est utilisée pour graver chimiquement le matériau indésirable. L'unité fournit également une station de séchage post-gravure en option et une machine de conditionnement de surface pour le nettoyage et la finition de surface. Dans l'ensemble, l'outil de photorésistance SHOWA SFE-6130D est conçu pour une production fiable et de haute qualité de composants électroniques, tout en maintenant des tolérances serrées et une haute résolution. Le processus de photolithographie permet une plus grande flexibilité dans la conception, l'efficacité dans la production, et de meilleures économies dans la fabrication. L'actif offre également l'avantage supplémentaire des processus automatisés grâce à son modèle de processus intégré de pointe.
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