Occasion SIPREL TR 15 #9287735 à vendre en France

SIPREL TR 15 est un type spécial de technologie de photorésistance utilisé pour le développement de dispositifs microélectroniques et MEMS. La technologie consiste en une combinaison d'une résine photosensible forte, résistante chimiquement et performante et d'une solution de développement avancée. La résine photosensible utilisée pour le TR 15 est formulée avec des additifs propriétaires et des composés radiosensibles. Il présente une excellente résistance à la gravure sèche, une excellente adhérence à la plupart des substrats et un faible retrait et des réflexions UV pendant le processus d'exposition. La caractéristique clé de cette résine est sa forte adhérence et son exposition aux rayonnements. Cela rend l'équipement photorésist adapté à une utilisation dans de nombreux types d'applications microélectroniques hautes performances. Le système photorésist SIPREL TR 15 est compatible avec de nombreux solvants de développement courants, y compris l'eau chaude DI, l'IPA et le NMP. La résine photosensible résiste à un large éventail de produits chimiques non volatils, notamment les alcools, les distillats de pétrole et les alcalis. La solution de développement, insensible à la lumière UV et exempte d'inhibiteurs de corrosion, est formulée pour offrir un développement rapide et haute résolution avec une abrasion de surface minimale. La photorésist est compatible avec la plupart des courbes de seuil standard et résiste à la plupart des types d'acide, y compris l'acide fluorhydrique et l'acide sulfurique. L'unité est également conçue pour donner des performances lithographiques fiables avec des rapports d'aspect élevés. Bien que la photorésist soit très compatible avec un large éventail de procédés de fabrication, elle présente également des performances supérieures dans des environnements extrêmes, tels que des situations de haute température et de stress. En termes de compatibilité photomasque, la photorésist TR 15 est conçue pour fonctionner avec des motifs photomasques positifs et négatifs. Les résultats de l'outil sont cohérents quelle que soit la fréquence de rayonnement ou la posologie utilisée. De plus, l'actif offre une meilleure adhérence et une meilleure résolution lorsqu'il est exposé à différentes intensités de lumière UV. Dans l'ensemble, le SIPREL TR 15 est idéal pour les applications nécessitant des systèmes photorésistants performants. La technologie offre une excellente résolution, résistance au rayonnement, résistance à la gravure sèche et à l'adhérence, ainsi que la compatibilité avec une large gamme de substrats et de traitements chimiques. En conséquence, le modèle est largement utilisé dans de nombreuses applications microélectroniques, MEMS et autres applications de fabrication.