Occasion SOLITEC 5110-D #9270248 à vendre en France
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ID: 9270248
Coater / Developer system
Size: 8 mm
Substrate sizes: 9" Round x 6" Square x 9" Diagonal rectangular
Time: Variable from 1-999 seconds in 1 second increments
Plug-in modules
Acceleration: 1,000-40,000 RPM/s
Spin speed control: ±10 RPM
SOLITEC Diaphragm dispense pump
Single chuck for wafers, masks or substrates
Backsplash control: Downflow exhaust system
N2 Motor purge and interlock
Vacuum interlock on wafer chuck
(5) Gallons drain buckets with exhaust
Closed loop servo speed control for tight process control
Polypropylene waste container
Digital tachometer with direct optical encoder
Solvent dispense before coating
N2 Blow-off
Applications:
Positive resist coatings on wafers, masks and substrates
Negative resist coating on wafers, masks and substrates
PMMA and E-Beam resist coating
Silicon, GaAs, InP and other semiconductor materials
Polyimide coatings on wafers, masks and substrates
Photosensitive polyimide coating
Multi-layer resists.
Includes:
Wafer chuck and loading paddle
Operations manual.
SOLITEC 5110-D Photoresist Equipment est un outil de photolithographie utilisé dans la création de circuits intégrés. Ce système est conçu pour permettre aux fabricants de créer efficacement des structures à l'échelle nanométrique avec précision. L'unité utilise une source lumineuse à trois canaux et un logiciel de pointe pour s'adapter aux exigences complexes des processus, y compris un large éventail de concentrations de dopage et de temps d'exposition. Les systèmes de photolithographie sont composés de plusieurs parties essentielles au traitement photorésist des substrats. La source lumineuse est la première partie et est chargée d'émettre de la lumière UV dans trois bandes de fréquence, 365 nm, 405 nm et 436 nm. Cette lumière est ensuite recueillie par un ensemble de lentilles et focalisée à l'aide d'un réticule sur l'échantillon. Le réticule est piloté par un ordinateur et est chargé d'assurer la structuration critique du substrat. La machine peut également être utilisée de concert avec un outil de lithographie e-beam, ce qui permet d'affiner les motifs. En plus des capacités de modélisation directe de SOLITEC 5110D, il existe d'autres caractéristiques qui le rendent idéal pour les structures nanométriques au niveau de la production. Une séquence automatisée d'exposition et de préhension est possible, ce qui élimine le besoin de réglage manuel de la source lumineuse. De plus, il dispose d'un amplificateur intégré, ce qui réduit le temps de démarrage lors du travail avec plusieurs substrats. Pour des raisons de sécurité, l'outil comprend également un interrupteur d'arrêt d'urgence. Pour contrôler le processus de modélisation, des logiciels sophistiqués peuvent être utilisés pour manipuler de nombreux paramètres, y compris le temps d'exposition, l'intensité, le cycle de travail, etc. Ce logiciel est basé sur un algorithme classique de niveau de production permettant un contrôle précis sur l'ensemble du processus photorésist. De plus, le logiciel peut être calibré pour localiser précisément la couche de résine sur le substrat, réduisant les ressources gaspillées dues au désalignement de la plaque. Dans l'ensemble, 5110-D est un outil inestimable dans la production de structures micro et nanométriques. Sa source lumineuse à trois canaux réglable et son pas de plaquette intégré le rendent bien adapté à la nanofabrication au niveau de la production. L'interrupteur de coupure d'accident inclus assure la sécurité des utilisateurs. De plus, le logiciel sophistiqué résout bon nombre des complications de la mise à jour, réduisant le besoin de réglage manuel de la source lumineuse. Ceci, combiné à ses capacités de tissage précises, en font un choix idéal pour produire des nanostructures de haute qualité.
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