Occasion SOLITEC 5110 #9043474 à vendre en France

Fabricant
SOLITEC
Modèle
5110
ID: 9043474
Coater / Developer No digital reader.
L'équipement SOLITEC 5110 photorésist est un système haute performance conçu pour produire des couches de photorésist précises et reproductibles sur un substrat. La couche de résine photosensible est utilisée comme masque pour diverses opérations de traitement, telles que la gravure ou le forage, et est une composante importante de la fabrication de cartes de circuits imprimés, de circuits intégrés et d'autres technologies dans l'industrie électronique. L'unité utilise une tête d'écriture directe à diode laser pulsée (PLD), une source lumineuse YAG avec une faible puissance et une excellente stabilité à long terme. Cela permet une exposition sans contact des motifs de photorésist en un seul passage, avec une excellente imagerie de fonctionnalités et la définition des bords. Le faisceau laser est modulé par un modulateur acousto-optique pour produire des images de ligne et d'écart extrêmement uniformes, avec une précision de fonctionnalité jusqu'à 25 microns. 5110 dispose également d'une interface graphique complète qui fournit un moyen facile pour le contrôle de la machine par l'utilisateur. Les paramètres de travail tels que la largeur des impulsions, le temps d'exposition, la vitesse de balayage et d'autres peuvent être saisis et surveillés en temps réel via l'écran. En outre, une bibliothèque de recettes prédéfinies peut être établie pour assurer des performances répétables d'un emploi à l'autre, tout en offrant la capacité de créer rapidement de nouveaux emplois. L'outil peut être configuré avec jusqu'à quatre positions, chacune pouvant être équipée de systèmes de vision coaxiale ou de capteurs de déplacement laser pour assurer une position précise et un alignement précis de la couche photorésistante exposée. Ceci est essentiel pour une production de haute qualité, en particulier sur des projets plus petits et plus complexes. SOLITEC 5110 est un actif de haute performance de photorésistance qui permet de produire des couches de photorésist précises et reproductibles avec une excellente imagerie des caractéristiques et une définition des bords. Le modèle est équipé d'une interface utilisateur graphique et d'une gamme de composants optionnels pour assurer un alignement précis, et une bibliothèque de recettes prédéfinies permet des performances répétables d'un travail à l'autre. Sa configuration flexible et ses performances fiables en font une solution idéale pour l'assemblage électronique et d'autres procédés de haute précision.
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