Occasion SOLITEC 5110C #9043475 à vendre en France

SOLITEC 5110C Photoresist Equipment est un système de photolithographie entièrement intégré pour le dépôt de précision et la gravure de couches de polymères résistants aux produits chimiques sur un matériau de substrat. Il est utilisé pour le transfert de motifs à haute résolution et pour le développement de couches actives. L'unité est basée sur une grande machine d'imagerie numérique à panneau plat intégrée avec des masques de précision, un outil de mise en scène sous vide et un procédé de trempage unique. L'actif SOLITEC 5110-C est capable de transférer et de graver simultanément plusieurs couches. Il est disponible en deux configurations définies : le 5120S et le 5140C. Le modèle 5120S est conçu pour un petit nombre de couches, avec des tailles de chambre jusqu'à 10 « x10 », tandis que l'équipement 5140C a augmenté la taille, avec des tailles de chambre jusqu'à 60 « x30 ». 5110C système est conçu avec un contrôleur d'unité étroitement intégré responsable du contrôle de l'ensemble de la machine. Ce contrôleur relie l'outil d'imagerie numérique à l'actif de scène. En outre, il contient plusieurs contrôleurs algorithmiques pour assurer le bon fonctionnement en contrôlant le processus de dépôt et d'autres paramètres critiques tels que la vitesse de gravure, l'épaisseur de la couche, la température du substrat, les débits de gaz, etc. 5110-C modèle comprend également une technologie d'imagerie directe laser propriétaire (LDI), qui lui permet de produire des motifs de masque haute résolution. Ceci est réalisé par une combinaison de processus LDI et photorésist. Les LDI sont modélisés par exposition UV à l'aide d'un masque de haute précision, puis transférés sur le substrat par un équipement à vide. SOLITEC 5110C assure le transfert de motifs et la structuration de motifs jusqu'à 50nm, fournissant une précision et un motif de photorésist répétable sur chaque couche. Le système offre également un haut degré de définition des bords et une forte densité de motifs, ce qui en fait une solution hautement fiable et rentable pour la photolithographie de production. En plus de réaliser une couche de photorésist, SOLITEC 5110-C peut être utilisé pour une large gamme de procédés secondaires, y compris le collage, le polissage et l'encapsulation des puces, ainsi que pour mesurer les propriétés du produit fini. Dans l'ensemble, 5110C Photoresist Unit est une solution puissante et très fiable pour la photolithographie haute résolution qui peut être utilisée dans plusieurs substrats et épaisseurs, ce qui en fait un excellent choix pour une variété d'applications.