Occasion SPECIALTY COATING SYSTEMS / SCS CL 2202 #9012900 à vendre en France

SYSTÈMES DE REVÊTEMENT SPÉCIALISÉS/SCS CL 2202 est un équipement de photorésistance qui est utilisé pour créer des motifs complexes sur un large éventail de matériaux tels que les métaux, les plastiques, les films de polymères, les textiles et les cartes de circuits imprimés. Le système SCS CL 2202 comprend une photorésist liquide qui contient un monomère, un réticulateur et un photoinitiateur, permettant à l'utilisateur de produire des motifs complexes en une seule couche. Le matériau photorésist est appliqué sur le substrat et exposé au rayonnement UV. Le rayonnement provoquera la décomposition du photoinitiateur, formant des radicaux libres au sein de la matrice monomère. Ces radicaux libres provoquent alors la polymérisation croisée du monomère et forment un matériau solide au motif désiré. Les principaux avantages de cette unité de photorésistance sont sa réaction photochimique rapide au rayonnement UV, son comportement uniforme et sa capacité à former des motifs nets et propres. Le matériau photorésist présente également une excellente adhérence sur une variété de substrats tels que les métaux, les plastiques et les tissus. En outre, cette machine photorésist est conçue pour fonctionner avec une gamme de techniques d'exposition telles que l'impression par contact, sérigraphie, et d'autres processus automatisés. SYSTÈMES DE REVÊTEMENT SPÉCIALISÉS L'outil photorésist CL 2202 offre également d'excellentes performances lorsqu'il est utilisé sur des cartes de circuits imprimés, et il est résistant aux produits chimiques de gravure et aux solvants. Le modèle de haute résolution produit par cet actif fournit des résultats précis et cohérents avec une distorsion minimale. En outre, ce modèle peut créer des motifs complexes qui nécessitent normalement un processus multi-étapes, et donc il réduit le temps de fabrication. Dans l'ensemble, l'équipement photorésist CL 2202 est une solution fiable et efficace pour modeler facilement les matériaux au niveau moléculaire. Il fournit une excellente adhérence à une variété de substrats et peut former des motifs complexes avec une distorsion minimale. En outre, il est résistant aux produits chimiques de gravure et aux solvants et est conçu pour fonctionner avec une gamme de techniques d'exposition. Ce système fournira des résultats précis et cohérents, et est un excellent choix pour créer des modèles complexes rapidement et avec précision.