Occasion SRD CT-303 #9301058 à vendre en France

SRD CT-303 est un équipement de photorésistance utilisé dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Le système s'appuie sur un matériau photorésist négatif classique qui est exposé à la lumière ultraviolette pour créer un motif qui est transféré au substrat. CT-303 unité utilise deux composants liquides, un photoactif et un développeur inactif, offrant une souplesse dans le développement des tolérances fines, des détails subtils de surface, et des motifs complexes. Le composant photoactif est un polymère d'acrylate sensible à la lumière, formulé par SRD, avec des poids moléculaires spécifiques permettant un contrôle précis de l'épaisseur de résistance, une résolution supérieure et une image de contraste plus élevé. Ce matériau photoactif est séparé du révélateur inactif par une barrière de blocage de la lumière, créant une machine qui permet un temps d'exposition à la lumière UV qui peut être réglé rapidement. Une fois le temps d'exposition et de redistribution déterminé, le substrat est revêtu de la matière photoactive. En utilisant les mêmes techniques d'exposition à la lumière utilisées dans les photorésistes classiques, on crée alors le motif désiré dans la couche photoactive au fur et à mesure que les parties non exposées sont lavées par le révélateur inactif. Les motifs créés dans SRD CT-303 peuvent varier de 0,2 à 3,0 micromètres, et peuvent être utilisés pour créer des couches de masque avec des lignes de circuit de moins de 1 micron d'épaisseur. CT-303 outil offre plusieurs avantages par rapport à ses concurrents. Comme cet actif est conçu pour être utilisé sur plusieurs matériaux de substrat différents, la résistance peut travailler facilement sur des matériaux organiques, composites et oxydes, ce qui élimine la nécessité de passer d'un produit à l'autre en fonction du matériau. Ce modèle a également une excellente transparence optique, permettant la création de couches minces et une résolution plus fine. Dans l'ensemble, SRD CT-303 est un équipement de photorésistance fiable et puissant capable de créer des motifs complexes jusqu'à quelques microns. Avec une résolution supérieure, un taux de transfert impressionnant et un excellent contraste entre les couches exposées et non exposées, le système convient à de nombreux matériaux et applications de substrat différents.