Occasion SSC BPE-2708-SP #9396918 à vendre en France

SSC BPE-2708-SP est un équipement de photorésistance développé par SSC. Il s'agit d'un système très efficace et complet conçu pour le traitement de substrats avancés, tels que les matériaux métalliques, le verre et organiques. C'est une unité de lithographie sans masque, à faisceau divisé et à proximité limitée. Cette machine photorésist dispose d'une conception d'outil très avancée avec une méthode de lithographie multi-étapes unique. Il déploie un miroir de projection en quartz-verre personnalisé qui élimine la distorsion de la couche de résistance pré-traitée. Ceci assure une formation d'image uniforme et un meilleur alignement avec le matériau cible. L'actif fonctionne avec un modèle d'alignement haute résolution qui identifie rapidement les désalignements des substrats et les corrige automatiquement pour s'assurer que vos substrats sont correctement imagés. L'équipement photorésist est construit avec une large gamme de caractéristiques pour le traitement optimal des substrats avancés. Il dispose de deux systèmes photorésistants distincts : l'un pour le traitement de substrats épais et l'autre pour le traitement de couches minces. Le système est également livré avec une gamme d'outils logiciels, permettant l'écriture directe sans masque lithographie et la proximité limitée lithographie sans masque. De plus, les systèmes comportent un mouvement d'échantillon de haute précision et une préparation de plaquettes. L'unité peut accueillir une taille maximale d'échantillon de 4 ", et a une zone d'exposition réglable avec des motifs précis induits par laser. Les résolutions d'exposition peuvent atteindre 9500ppi, ce qui permet une imagerie haute résolution des caractéristiques des petits substrats. Il est également livré avec une machine de refroidissement pour permettre des expositions plus efficaces, améliorant ainsi le débit global et la stabilité du faisceau. Globalement, BPE-2708-SP est un outil de photorésistance très avancé et efficace, conçu spécifiquement pour permettre le traitement de substrats avancés. Sa conception riche en fonctionnalités permet un traitement rapide des substrats avec des expositions précises et fournit une excellente résolution d'imagerie en écriture directe sans masque pour des images de plus grande fidélité. Son design unique, associé à ses outils logiciels, font de cet actif photorésist un choix idéal pour les applications haut de gamme.