Occasion SSC BPE-2708-SP #9396923 à vendre en France

SSC BPE-2708-SP Photoresist Equipment est un système de photomasque de bureau conçu pour le prototypage rapide dans les processus d'imagerie et de fabrication de microcircuit. Il utilise une technologie d'exposition avancée pour fournir un niveau supérieur de qualité de photomasque tout en utilisant une seule couche, photorésist film sec. BPE-2708-SP dispose d'un design compact qui est idéal pour les besoins de bureau, avec une unité d'imagerie optique intégrée, des capacités d'autofocus, et le masquage de motifs intelligents. De plus, la machine est capable d'atteindre des dimensions critiques et des caractéristiques ligne/espace jusqu'à 25 microns. SSC BPE-2708-SP intègre un Dynamic MemoLight 200 réglable à l'extérieur pour l'imagerie avec un logiciel rationalisé intégré répondant au besoin d'exposition aux UV dans la fabrication de photomasques. Cet outil dispose d'une seule couche de photorésist en film sec qui élimine le besoin de résines liquides et dispense le besoin de traitement humide et de fermentation. L'intensité UV est réglable jusqu'à 180 mW/cm2 pour fournir une exposition uniforme et propre sur tout le film. BPE-2708-SP dispose également d'une table de mise en scène de 8 x 10 pouces qui assure que le film est dirigé avec précision vers le capteur d'image et est modelé de la manière la plus efficace. En utilisant cet atout, les utilisateurs peuvent exécuter l'imagerie étape-répétition pour la nuit, le traitement par lots, sans aucune réduction de la qualité d'image ou de la largeur des lignes. SSC BPE-2708-SP Photoresist Model est un atout précieux pour les utilisateurs qui ont besoin de photomasques cohérents et de haute qualité en moins de temps. Cette technologie d'exposition avancée est conviviale et facilite le prototypage rapide et la fabrication de photomasques. BPE-2708-SP permet aux utilisateurs d'obtenir un contrôle dimensionnel précis et de produire des modèles de microcircuit de haute qualité et cohérents, avec un minimum d'expérience et d'effort.