Occasion SSE Maximus 804 #293633410 à vendre en France

Fabricant
SSE
Modèle
Maximus 804
ID: 293633410
Taille de la plaquette: 2"-6"
Coater / Developer system, 2"-6" Option: Resist syringe (3) Media tanks: EBR, CD26 (Developer) HMDS Station (2) Hotplates Cool plate Video pre aligner Proximity wafer handler on hotplate: 0 mm - 11 mm Robot wafer handler Coater: EBR and BSR Maximum coating speed: 6000 RPM Maximum developing speed: 6000 RPM Developer: BSR Developer nozzles: Pray Puddle (2) Resist pumps: SPR 700 1.2 AZ4533 Hot plate: Temperature uniformity and control: +0.5°C at 100°C Maximum temperature: 250°C Cool plate: Temperature uniformity and control: +0.5°C at 20-30°C Spin process uniformity: Photoresist uniformity (Across wafer): <15 Å (1 Sigma) Photoresist uniformity (Wafer-to-wafer): <20 Å (1 Sigma).
SSE Maximus 804 est un équipement photorésist fiable et convivial conçu pour l'application de matériaux photorésistants dans la fabrication de composants semi-conducteurs et électroniques. Le système est capable de former des caractéristiques de rapport d'aspect élevé de manière précise. Il utilise une technologie de pointe pour produire des images de qualité supérieure sans avoir besoin de détails extrêmement fins. Maximus 804 unité se compose de trois composants principaux - dispositif d'exposition, dispositif de transfert, et dispositif de développement. Le dispositif d'exposition est basé sur une machine d'imagerie numérique directe (DDI) avec un réseau de diodes laser qui permet l'imagerie à grande vitesse. Le dispositif de transfert facilite le transfert des images vers le substrat photorésistant proprement dit par impression optique ou thermique. Le dispositif de développement est basé sur une procédure d'immersion ou de développement de pulvérisation qui peut être ajustée pour optimiser les résultats d'imagerie pour divers matériaux photorésistants. L'outil est capable de travailler avec une large gamme de matériaux photorésistants et peut supporter diverses tailles de fonctionnalités de microns à millimètres afin d'optimiser les paramètres de traitement. Il est conçu pour différents processus de lithographie tels que contact, stepper, projection et gravure ionique réactive profonde (DRIE). Avec plusieurs modes de fonctionnement, tels que manuel, semi-automatique ou entièrement automatique, l'actif permet aux utilisateurs de choisir le mode qui conviendra le mieux à leurs besoins. Le modèle SSE Maximus 804 est également très fiable et durable en raison de ses composants de haute qualité et de sa construction. Il est doté d'ensembles optiques micro-électromécaniques (MEMS) de pointe qui résistent aux chocs mécaniques, à la surchauffe et à la poussière. Avec sa puissante interface de commande, l'équipement est bien adapté aux réglages industriels et assure des performances constantes sur une utilisation prolongée. Dans l'ensemble, le système Maximus 804 est un choix idéal pour diverses applications photorésistantes en raison de ses performances fiables, de sa technologie de pointe et de sa large gamme de modes de fonctionnement. Il produit des images de qualité supérieure et assure la formation précise des caractéristiques de haut rapport d'aspect. En outre, sa conception conviviale, ses nombreuses options et sa grande fiabilité en font une solution attrayante pour une production à plus petite échelle et une fabrication à grande échelle.
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