Occasion SSE Maximus 804 #293651477 à vendre en France

SSE Maximus 804 est un équipement de photorésistance conçu pour fournir une solution complète pour une variété d'applications de photolithographie et de fabrication de masques. Ce système est utilisé pour transférer des motifs de circuit sur un substrat ou une plaquette dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, de circuits imprimés et d'autres composants microélectroniques. Maximus 804 utilise une unité de photorésistance ultraviolette (UV) « traditionnelle », c'est-à-dire qu'il utilise un revêtement chimique sensible à la lumière UV, ce qui entraîne la formation d'un motif lors de l'exposition à la lumière UV. La machine dispose d'une variété de composants pour assurer un transfert de motifs efficace et précis. Il dispose d'un contrôleur d'outils maître, qui est responsable du fonctionnement de tous les composants, d'un atout d'alignement pour le positionnement précis du substrat pour le traitement, et d'une gamme d'options de résines photosensibles pour diverses applications. Pour obtenir le résultat de motif souhaité, un alignement précis du masque et du substrat doit être réalisé. Le modèle utilise l'équipement d'alignement pour positionner avec précision le substrat. Le système d'alignement est capable d'auto-aligner avec une précision de sous-microns à l'aide d'une combinaison d'un appareil photo numérique et d'un bras robotique 4 axes. La machine est également équipée du photorésist Spray Tool, qui utilise une buse spécialement conçue pour appliquer une couche mince et uniforme de photorésist sur le substrat. L'actif dispose d'une gamme de livraison de photorésist allant jusqu'à 24 pouces, et peut être utilisé dans une variété de substrats tels que le quartz, le verre, le silicium et divers métaux. Enfin, un motif est formé par le UV Exposure Model, qui utilise une source laser qui est utilisée pour exposer le matériau photorésist à la lumière ultraviolette (UV), entraînant la formation d'un motif défini sur le substrat. L'équipement d'exposition aux UV est capable de produire des motifs jusqu'à 36 pouces de taille et offre une large gamme d'intensités d'exposition pour diverses conditions de traitement de résistance. En conclusion, SSE Maximus 804 offre une solution photorésist complète pour une variété d'applications de photolithographie et de fabrication de masques. Il dispose d'un ensemble moderne de composants tels qu'un système d'alignement, une unité de pulvérisation photorésist et une machine d'exposition aux UV, tous intégrés dans un seul outil, ce qui en fait un outil idéal pour les processus de photolithographie.