Occasion STEAG Cluster 421 #9136000 à vendre en France

STEAG Cluster 421 est un équipement de photorésistance conçu pour la production de lentilles planes et cylindriques de grande précision, ainsi que de composants optoélectroniques. Il utilise une ressource d'exposition pour simuler différents types de caractéristiques d'instruments optiques et un procédé lithographique pour créer différentes structures sur un substrat. Le cluster 421 offre une précision supérieure, avec une taille de 50 mm (1,97 po). Le système photorésist est conçu pour accueillir une variété de substrats, y compris des matériaux amorphes et cristallins, ainsi que tous les types de surfaces en quartz, verre et plastique. STEAG Cluster 421 supporte également une large gamme de substrats aux formes de surface différentes, ce qui le rend idéal pour une fabrication optique complexe. L'unité photorésist comprend une tête d'impression, qui peut être utilisée pour appliquer le matériau photorésist sur le substrat, ainsi qu'une machine de développement, qui peut être utilisée pour développer le matériau photorésist. L'outil de développement est configuré pour fournir des résultats à haute résolution à une vitesse de développement élevée, ce qui le rend adapté à une production à haut volume. Le cluster 421 comprend également des outils pour contrôler l'exposition et développer des processus, qui permettent aux utilisateurs d'adapter l'actif photorésist à leurs besoins spécifiques. Par exemple, les utilisateurs peuvent choisir la bonne ressource d'exposition pour s'assurer que les meilleurs résultats sont obtenus. Le modèle photorésist a également la capacité de contrôler la température de la solution du développeur, permettant une précision accrue dans le processus de développement. En résumé, STEAG Cluster 421 est un équipement de photorésistance spécialement conçu pour la production en grand volume de composants optiques. Il offre une excellente précision et vitesse, et les matériaux photorésistants peuvent être adaptés à une variété de substrats. En outre, les utilisateurs ont la capacité de contrôler l'exposition et de développer les processus, en veillant à obtenir les meilleurs résultats possibles.