Occasion STEAG / MATTSON / AST Marangoni #9184982 à vendre en France

L'équipement de photorésistance STEAG/MATTSON/AST Marangoni est une combinaison de procédés chimiques utilisés pour produire des images à haute résolution sur un substrat par photolithographie. La photolithographie est une méthode de gravure ou autrement de transfert de la forme d'un masque vers un substrat sous-jacent en utilisant la lumière. Le système AST Marangoni utilise une résistance photosensible. La résine est typiquement fournie sous forme de solution aqueuse de molécules polymérisées en suspension dans un milieu liquide. Lorsqu'elles sont exposées à la lumière, les molécules se réticulent et forment un film polymérique déposé sur le substrat. Ce film est très résistant aux propriétés chimiques et physiques, et est capable de définir un motif. L'unité STEAG Marangoni utilise trois étages distincts, chacun travaillant à maximiser la résolution d'image lors de la création du motif sous-jacent. Dans la première étape, une solution de gravure telle que l'acide fluorhydrique est appliquée sur le substrat. Cette solution permet de modifier la surface du substrat et de former des fosses microscopiques. Cette première étape fournit la rugosité nécessaire à l'adhésion des étapes ultérieures de photolithographie. Dans la deuxième étape, la résine photosensible est appliquée sur le substrat et mise en circulation. Cette étape est importante pour créer une couche uniforme sur le substrat. La machine MATTSON Marangoni utilise une combinaison de tension superficielle et de diffusion pour s'assurer que la résine photosensible adhère complètement au substrat. Dans la phase finale, la résine photosensible est exposée à la lumière à l'aide d'un masque configuré. C'est là que la photorésist est exposée et réagit avec la lumière pour initier la réticulation des molécules. L'outil Marangoni utilise une combinaison d'optique haute résolution et de dispositifs d'alignement contrôlés par ordinateur pour s'assurer que le masque est correctement aligné. Une fois la réticulation terminée, les molécules réticulées forment une couche uniforme en surface. Ceci retient le motif du masque et fournit une image uniforme sur le substrat sous-jacent. À la suite de ce procédé, le motif est développé en utilisant la gravure humide pour éliminer la résine photosensible dans les zones indésirables. STEAG/MATTSON/AST Marangoni photorésist actif est une technique de photolithographie hautement spécialisée et efficace qui produit des images fiables et précises sur un large éventail de substrats. Il utilise trois étages distincts pour assurer une couche uniforme de photorésist en surface. De plus, il utilise une optique haute résolution pour s'assurer que le masque est bien aligné. Ce modèle s'est avéré être une technique de photolithographie fiable et efficace et est largement utilisé dans l'industrie électronique.