Occasion SVG 81 #9302570 à vendre en France

SVG 81 est un équipement de photorésistance développé pour permettre la performance d'une variété de processus de production d'appareils. Le système a été conçu spécifiquement pour permettre la gravure, la planarisation et la tranchée parmi les matériaux de plaquettes semi-conductrices tels que le silicium, l'arséniure de gallium, le tungstène et le silicium polycristallin. 81 fonctionne en exposant une couche de résine photosensible sur une surface à un rayonnement UV rapide généré par une source lumineuse hautement spécialisée. Ce rayonnement UV permet de créer des changements chimiques dans la molécule de la photorésist, permettant de construire des couches d'épaisseurs différentes pour obtenir le motif désiré en surface. Après exposition au rayonnement UV, la plaquette est transférée dans la chambre de gravure, où un graveur approprié est utilisé pour éliminer le matériau moins réticulé. Une fois le motif désiré créé, une étape de nettoyage à sec après gravure est utilisée pour éliminer les résidus ou les particules laissés dans le processus de gravure. L'unité SVG 81 permet également de déposer une couche de planarisation sur la plaquette exposée afin d'obtenir une surface plus uniforme. Cela permet de générer des surfaces plus lisses et des dispositifs plus fiables. De plus, 81 permet la réalisation de trous ou tranchées de différentes tailles et formes en fonction de l'intensité d'exposition au rayonnement ultraviolet appliquée. La machine SVG 81 est composée de plusieurs composants majeurs. Ces composants comprennent l'alimentation en photocathode, la source lumineuse, l'outil d'imagerie et les commandes environnementales. L'alimentation en photocathode sert de source d'énergie pour le rayonnement ultraviolet spécial nécessaire à la création du motif photorésist. La source lumineuse est utilisée pour fournir le rayonnement UV nécessaire, tandis que l'actif d'imagerie contrôle l'uniformité du motif sur l'ensemble de la plaquette. Enfin, les contrôles environnementaux s'ajustent en fonction de la température et de la densité. Le modèle 81 présente de multiples avantages. L'équipement est fiable, rentable et économe en énergie. De plus, le procédé est non intrusif, c'est-à-dire qu'il n'enlève rien aux autres procédés tels que la gravure et la planarisation. Enfin, SVG 81 est compatible avec une large gamme de matériaux de plaquettes, ce qui en fait un système largement utilisé.