Occasion SVG 8126 #9123208 à vendre en France

SVG 8126 est un équipement de photorésistance de qualité commerciale. C'est un système spécialement développé en matériaux acrylate et conçu pour une variété de besoins de photolithographie. L'unité est composée d'une gamme de composants, tels qu'une photorésist, un photomasque et un développeur. La photorésist est un produit utilisé pour créer des motifs sur un substrat en bloquant sélectivement l'exposition à une source lumineuse. La résine photosensible utilisée avec la machine 8126 est un matériau peu coûteux à base d'acrylate qui permet d'augmenter la résolution et les rendements des produits gravés. La résistivité de la résine photosensible est réglable, ce qui permet aux concepteurs d'obtenir l'effet désiré. Le photomasque est une feuille transparente de matériau utilisée pour bloquer l'exposition de certaines zones du substrat lors du processus photolithographique. Le photomasque utilisé avec l'outil SVG 8126 est en matériau à haute transmission et offre un contraste et une résolution d'image élevés. Le révélateur (ainsi que le photomasque) est utilisé pour former la couche de photorésist sur le substrat. Le développeur utilisé avec 8126 actif est un développeur chimique qui aide à créer la couche de résistance en activant le matériau acrylate dans la photorésist. Le processus de photolithographie lui-même est une série d'étapes qui commence par un prétraitement du substrat (c'est-à-dire du matériau à modeler). Il s'agit notamment de graver le substrat d'une manière spécifique pour le préparer à l'étape suivante. Ensuite, la résine photosensible (avec le développeur) est appliquée sur le substrat. Ensuite, la couche de résine photosensible est exposée à la lumière à l'aide du motif photomasque. Une fois durcie, la couche de résine photosensible deviendra insoluble, ce qui lui permettra de créer un motif sur le substrat. Enfin, le substrat est gravé selon les motifs de conception fixés dans la couche de résine photosensible. Le modèle SVG 8126 est très apprécié pour ses résultats cohérents et son haut degré de précision. Sa photorésist à base d'acrylate offre d'excellentes propriétés d'adhérence et d'adhérence. Le photomasque offre des vitesses de transmission élevées et un excellent contraste d'image. Son développeur chimique assure un motif uniforme et complet sur le substrat. Dans l'ensemble, l'équipement promet des résultats cohérents qui respectent les normes exigeantes.