Occasion SVG 8126 #9132286 à vendre en France

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SVG 8126
Vendu
Fabricant
SVG
Modèle
8126
ID: 9132286
Resist coater, Spin station.
SVG 8126 est un système de résistance photosensible développé par Shipley Company, Inc. C'est un photorésist sous vide classique de l'industrie qui est utilisé en photolithographie comme couche de protection lors d'une opération de gravure ou de placage. Les propriétés uniques de 8126 aident à créer la forme désirée du motif de résistance sur le substrat. SVG 8126 a une viscosité élevée, ce qui est bénéfique pour réaliser des motifs précis sur les substrats. De plus, la résine est insoluble dans les solutions alcalines et résiste à la gravure. Cela le rend adapté aux applications nécessitant une résistance aux hautes températures ou aux processus de gravure, y compris l'exposition à un angle profond ou à une ligne critique. La résine est composée de polycyclooctène (PCT) comme matériau de base, ce qui fournit d'excellentes propriétés d'adhérence et de résistance chimique et la rend idéale pour les procédés de gravure et de placage à haute résistance. Le système 8126 comporte également un encapsulant liquide qui forme une barrière de protection entre la résine et le substrat. Ceci est particulièrement vrai lors de l'exposition à l'angle profond et à la ligne critique. SVG 8126 peut être appliqué sur un ou plusieurs substrats à une température comprise entre 100 ° C et 250 ° C La résistance peut être guérie soit par exposition à la lumière UV, soit par la température. Cela le rend adapté à une gamme d'applications incluant vias, microcircuits, et gravure non directionnelle. La résistance peut être facilement éliminée par des méthodes chimiques et mécaniques. L'élimination chimique utilise une solution d'acide sulfurique ou chlorhydrique, tandis que l'élimination mécanique utilise un abrasif inerte comme le sable ou la bille de verre. Enfin, la résine doit être retirée du substrat dans une étape de rinçage approfondi. En résumé, 8126 est un photorésist sous vide standard de l'industrie conçu pour être utilisé dans des procédés de photolithographie à haute résistance. Il a d'excellentes propriétés d'adhérence et de résistance chimique. Il peut être exposé à une gamme de températures et avec une exposition à la lumière UV ou par la température. La résine est facile à enlever chimiquement et mécaniquement, et elle convient pour les applications nécessitant une résistance aux hautes températures ou aux procédés de gravure.
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