Occasion SVG 8136 #9396684 à vendre en France
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ID: 9396684
Taille de la plaquette: 5"
(4) Coater / (3) Developer tracker system, 5".
SVG 8136 est une photorésist haute performance conçue pour des procédés de lithographie avancés tels que la lithographie à double incrustation et l'immersion. 8136 est une résistance au ton négatif qui est formulée avec un mélange propriétaire de polymères et d'additifs pour fournir une résolution, une uniformité et une stabilité de traitement supérieures. Grâce à la technologie innovante, la photorésist SVG 8136 permet de doubler les processus pour obtenir une résolution de fonctions de moins de 100nm. La résistance est conçue pour être hautement filmable et assure une excellente uniformité des processus humides, permettant aux développeurs de fabriquer des structures complexes avec précision et fiabilité. Le mélange polymère est conçu pour offrir une meilleure résistance à l'eau et assurer d'excellentes performances mécaniques tout au long du processus de lithographie. La résistance peut être utilisée avec des produits chimiques tels que l'alcool isopropylique et l'acétone pour développer des caractéristiques rapidement et efficacement. La formule raffinée de la résistance aide à minimiser la perte de résistance chimique, ce qui donne des performances d'imagerie fiables pour les applications avancées. Un autre avantage de l'utilisation de la résine photosensible 8136 est qu'elle est conçue pour réduire la contamination et minimiser la production de particules pendant le post-traitement. La résiste est dotée d'une couche organique en forme de veste qui assure une faible teneur en particules, une contamination réduite et une fixation fiable des motifs exigeants. En général, SVG 8136 photorésist est conçu pour fournir des procédés de lithographie avancés avec une résolution optimale, l'uniformité, et la stabilité de traitement. La résistance est hautement filmable, résistante à l'eau et présente une faible génération de particules, ce qui la rend apte à être utilisée dans des applications avancées de fabrication de dispositifs. En offrant d'excellentes performances d'imagerie et des avantages fiables en post-traitement, 8136 photorésist peut permettre aux développeurs de produire des structures plus précises et complexes avec plus de précision et de précision.
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