Occasion SVG 86 Series #160461 à vendre en France

SVG 86 Series est un équipement de photorésistance fabriqué par Specialty Photoresists, Inc. 86 Série de photorésistes sont des polymères haute performance conçus pour offrir des propriétés de film supérieures telles qu'une bonne adhérence, haute résolution et excellente résistance chimique. SVG Série 86 utilise une combinaison unique de polymères et de photoinitiateurs pour permettre un dépôt et un tissage en couches minces de haute qualité. Série 86 est un système de photorésist basé sur des solutions de spin-on offrant une résolution forte et claire pour les applications microélectroniques. La Série SVG 86 est composée de trois polymères de base différents qui permettent de varier les propriétés du film, permettant d'adapter le film pour des besoins d'application spécifiques. La série 86 propose également la personnalisation à travers différents photoinitiateurs utilisés dans la formulation de résine, ainsi que divers additifs pour des besoins spécifiques d'application. La composition exacte de SVG 86 Series varie selon le type de polymère de base et de photoinitiateur utilisé. Selon le photoinitiateur sélectionné, les photorésistes de la série 86 nécessitent des temps d'exposition allant de quelques secondes à plusieurs minutes, avec les meilleures performances dans la gamme de 10 secondes à 1 minute. La série SVG 86 est compatible avec les systèmes de photolithographie automatisés, ainsi qu'avec les techniques d'exposition manuelle traditionnelles. La ligne de photorésist de série 86 couvre un très large spectre de surfaces de substrat et d'épaisseurs de film, avec des épaisseurs allant de 10 nm à des films épais d'une épaisseur allant jusqu'à plusieurs um, selon la formulation de la résine. La SVG Série 86 est extrêmement polyvalente et peut être utilisée pour des surfaces telles que le verre, le plastique, le métal et le quartz, selon la formulation de la résine. En conclusion, 86 Series est une unité de photorésistance haute performance offrant une excellente résolution, une forte adhérence, une bonne résistance chimique et un dépôt en couches minces. En tant que photorésist à base de solution, il est compatible avec la photolithographie automatisée et les systèmes d'exposition manuelle, et peut être adapté à des applications spécifiques en ajustant les quantités de polymère/photoinitiateur ainsi que divers additifs.