Occasion SVG 86 #9163180 à vendre en France

SVG 86 est un équipement de photorésistance développé par Silicon Valley Group (SVG) pour l'industrie des semi-conducteurs. Il s'agit d'une résistance à flux unique qui fournit d'excellents résultats d'impression, avec une résolution de bord fiable et une latitude d'exposition. Le système est constitué d'un matériau photorésist, d'un masque d'image, d'une solution de développement de photorésist et d'une unité de traitement chimique. En utilisation, le matériau photorésist est appliqué sur la surface d'une plaquette semi-conductrice et exposé à la lumière ultraviolette (UV) du masque d'image. La lumière provoque la dissolution de certaines parties de la résistance, tandis que d'autres restent intactes. Les parties restantes forment le motif qui sera transféré sur la plaquette. 86 est conçu pour produire des images haute résolution avec une épaisseur de matériau constante et une résolution de bord uniforme. Il a une faible sensibilité à la lumière, ce qui signifie qu'il peut être exposé à la lumière de haute intensité tout en produisant une image propre et précise. La résine a également d'excellentes propriétés de résistance chimique, et est résistante au blanchiment, à la corrosion et à la gravure. SVG 86 est utilisé dans de nombreux procédés de fabrication de semi-conducteurs. Il est utilisé pour créer une gamme de composants tels que des systèmes microélectromécaniques (MEMS), des microcontrôleurs et des puces intégrées. Il est également utilisé dans la réalisation de photorésistances, de transistors à couches minces et de diodes électroluminescentes (LED). En outre, il est utilisé pour modeler les cellules solaires et photovoltaïques. La machine est bien adaptée pour une fabrication de haut volume et de haute précision. Il est couramment utilisé dans la fabrication de matériaux avancés tels que le silicium contraint, le germanium, les semi-conducteurs composés et les nanostructures. L'outil est facile à utiliser et nécessite une formation minimale de l'opérateur. 86 est conçu pour être une solution photorésist abordable qui convient à une grande variété d'applications de semi-conducteurs. Il est très fiable, avec des taux de défauts faibles et des rendements élevés. Cela le rend idéal pour une production à haut volume, et améliore la fiabilité et les performances du dispositif fini.