Occasion SVG 86 #9181739 à vendre en France

SVG 86 est un équipement « photorésist » destiné à la conception et à la fabrication de micropuces lithographiques. C'est un système de film bi-couche ; la première couche est une résine photosensible plus sensible à l'exposition par des sources lumineuses à haute énergie telles que les ultraviolets (UV) ou les ultraviolets profonds (DUV). La deuxième couche est une couche antireflet (AR) qui permet de réduire ou d'éliminer les distorsions dues aux réflexions. 86 unité est constituée d'une combinaison spéciale de photorésistes polymères. Cette combinaison forme une machine à résistance complexe avec une adhérence supérieure au substrat et une haute résolution. La combinaison augmente non seulement la résolution de l'image, mais réduit également sa sensibilité aux variables, telles que l'humidité, la température et l'environnement chimique, qui sont souvent présentes pendant le processus lithographique. L'outil SVG 86 a été optimisé pour la fabrication de dispositifs microélectroniques avancés. En tant que tel, il utilise une combinaison de résistances positives et négatives criblables pour obtenir la résolution la plus élevée aux plus bas niveaux de sensibilité et de réflectance. 86 actif photorésist est adapté à une variété de sources d'exposition, y compris ArF excimer laser et DUV excimer sources. Le principal avantage du modèle SVG 86 est que sa haute résolution et sa faible sensibilité sont maintenues même en présence de variables environnementales et physiques telles que l'humidité, la température et l'environnement chimique. Ceci est dû aux propriétés particulières de la combinaison des résistances utilisées dans l'équipement. De plus, par rapport à d'autres résistances, 86 offre une meilleure adhérence de la résine sur le substrat, ainsi qu'une meilleure adhérence de la couche métallique structurée. Le système SVG 86 a également la capacité de produire des profils de couches minces uniformes, avec de faibles hauteurs de caractéristiques et une faible variation de CD. L'uniformité permet de créer des structures cohérentes à l'échelle nanométrique. L'amélioration de l'adhérence de la couche de résine sur le substrat permet de réduire les risques d'écaillage, de pelage ou de fissuration lors de la phase suivante de fermentation. En outre, 86 unités peuvent également être utilisées pour des applications « pas à pas » difficiles, qui nécessitent une imagerie haute résolution à des valeurs diélectriques élevées. La couche à motifs peut être optimisée pour augmenter le flux de la zone éclairée tout en permettant des caractéristiques plus précises et de meilleurs motifs. Dans l'ensemble, la machine SVG 86 est un outil de photorésistance très avancé conçu pour produire des microcircuits lithographiques précis avec une excellente adhérence au substrat et avec des caractéristiques fines et une haute résolution. Grâce à sa combinaison de polymères très complexes, 86 est un atout fiable et rentable pour la production de petits appareils électroniques à haute résolution.