Occasion SVG 860 #9238247 à vendre en France

SVG 860 est un équipement de photorésistance avancé de Nikon Instruments Ltd. utilisé pour le transfert d'images et la fabrication de dispositifs de microélectromécanique (MEMS). Il s'agit d'un outil intégré de dépôt, de spin-coating et d'exposition conçu pour une variété de matériaux tels que le silicium polycristallin, le polyimide et la résistance négative. La 860 est basée sur une technologie d'imagerie de pointe et est équipée d'un système d'immersion optique NA (ouverture numérique) élevé, d'un étage de haute précision, d'un inclitecteur de spinner à porteur d'air et d'une unité d'éclairage avancée. Il offre également un ensemble de paramètres de revêtement qui peuvent être ajustés finement, pour assurer que les propriétés précises des couches minces sont atteints. La machine repose sur un processus d'enrobage en deux étapes, le dépôt et l'exposition se faisant par étapes distinctes. La première étape est le dépôt, où une quantité précise de matériau photorésistant est appliquée à la surface du substrat. Ensuite, le substrat est filé à des vitesses précises, pour créer un film pair et mince. Après le processus de filage, le substrat est déplacé vers la deuxième étape d'exposition. Dans l'étape d'exposition, la lumière de l'outil d'immersion optique est clignotée sur le substrat et modelée avec précision. La couche de photorésist biologique est ensuite sélectivement enlevée ou modifiée en fonction des conditions d'exposition. Cette méthode d'exposition crée une variété de caractéristiques de forme précise avec une excellente résolution. Le SVG 860 permet également l'inspection en ligne et la mesure de l'épaisseur du film photorésist sur les puces d'essai. Cela permet aux fabricants de mesurer l'épaisseur du film sans déchirer et nettoyer la chambre, en accélérant le processus et en augmentant le débit. L'actif photorésist est conçu pour être compatible avec les procédés de lithographie à haut volume dans la fabrication de semi-conducteurs et de MEMS, grâce à sa précision, son contrôle de précision et sa facilité de fonctionnement. Le modèle est conçu pour la fiabilité et nécessite un entretien minimal pour améliorer la productivité. Cet équipement de photorésistance de pointe assure la création de fonctionnalités sur les puces MEMS avec une précision, une résolution et une répétabilité élevées.