Occasion SVG 8626 #9396687 à vendre en France

SVG 8626 est un équipement de photo-résistance développé par SVG Chemicals qui est conçu pour être utilisé dans la fabrication de photomasques avancés. Le système comprend une formulation photorésistante exclusive, un nouveau procédé de fabrication de photomasques et une technique de placage à trois couches. La formulation de la résine photosensible en 8626 est conçue pour produire des couches très minces de résines avec d'excellentes capacités de résolution. La formulation de résistance permet aux photomasques d'avoir des caractéristiques plus petites, des rapports d'aspect plus élevés, et des capacités de remplissage par voie améliorée tout en améliorant la résolution des caractéristiques fines et ultra-fines. Cette résistance permet également une distorsion d'image plus faible lors du placage du fait de sa grande homogénéité et de sa consistance de viscosité. Le procédé unique de fabrication de photomasques dans SVG 8626 utilise des photorésist ainsi que des couvertures à indice de réfraction pour créer des photomasques. Le procédé est caractérisé par une technique de placage à trois couches, qui assure des tolérances précises pour les caractéristiques, ce qui améliore la résolution de l'image et réduit les pertes de rendement. La première couche du procédé est le photomasque, qui sert à définir le motif du photomasque. La lumière est appliquée sur le photomasque et elle est exposée à un matériau photosensible, tel que le photorésist. La deuxième couche du procédé est constituée par les posites, qui sont utilisées pour améliorer l'homogénéité du photomasque et pour améliorer les dimensions des via-remplissages. La troisième couche est la couche de protection, qui protège le photomasque des contraintes environnementales et thermiques. Dans l'ensemble, le procédé de fabrication des photomasques de 8626 conduit à des photomasques à haute résolution, à une diminution de la distorsion de l'image, à une amélioration des performances de remplissage et à une amélioration des pertes de rendement. De plus, des contraintes thermiques et environnementales plus faibles lors du traitement aident à prolonger la durée de vie du photomasque et empêchent la corrosion. L'unité de photorésistance SVG 8626 est donc une machine de photorésistance avancée et fiable pour la fabrication de photomasques.